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- 2023-03-03 发布于江苏
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Schottky 製程簡介 Why Schottky 由於時代科技日益進步,相對的對電子元件要求越來越高,尤其是功率消耗越低,開關反應越快的產品,越是受歡迎,於是乎就產生了蕭特基二極體 Schottky VS GPP 產品別 VF VB IR TRR STD GPP 一般 高 低 慢 FR GPP 高 HER GPP 最高 SF GPP 低 Schottky 最低 低 高 快 Schottky 產品之種類 VF VB IR STD 低 20~60V 低 Low IR 高 最低 Low VF 最低 高 Hi VB ---- 80V ---- Schottky 製造流程 Wafer Clean Initial Ox 1st Photo 1st Ox Etch PR Strip RCA Clean RCA Clean Alloy BMR Front Metal 3rd Photo 2nd Photo 2nd Ox Etch PR Strip RCA Clean Drive in Pre-Im Ox Ion Implant BMD Metal Etch PR Strip Grind Back Metal Probing Wafer Clean ( 晶片清洗 ) SC1清洗 HF浸泡 純水QDR沖洗 SC2清洗 純水QDR沖
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