常用光学薄膜的基本设备原理和方法.pptVIP

教学内容 教学目的和要求 光学镀膜系统的组成及其作用；真空的获得和检测方法；用热蒸发方法制造光学薄膜；用溅射方法制造光学薄膜；离子镀原理和方法。 了解常用光学薄膜的基本设备、原理和方法。 第一页，共三十六页。 3.1 常用光学真空镀膜系统 获得光学薄膜两种工艺：物理气相沉积和化学液相沉积（CLD） 物理气相沉积（PVD）：在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 主要方法：真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜及分子束外延等。 特点：须在真空下进行，成本高，但膜厚可以精确控制，膜层强度好。 第二页，共三十六页。 化学液相沉积（CLD）：工艺简单，成本低，但膜层厚度不能控制，膜层强度差，较难获得多层膜且存在水污染问题。 光学真空镀膜机的组成：真空系统、热蒸发系统和膜层厚度控制系统。 什么是真空？ 压强低于一个大气压的任何气态空间。 真空度：表征真空的物理量。实际上是用气体压强来表示的。压强越小，真空度越高。 量度单位：帕斯卡（Pa） 1mmHg=133.3Pa; 1Torr(托)=133.3Pa; 1mbar(毫巴)＝0.75 Torr＝100 Pa 第三页，共三十六页。 真空的划分 粗真空：＞103Pa；低真空：103～ 10－1