1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

半导体装置.pdfVIP

  • 1
  • 0
  • 约2.54万字
  • 约 26页
  • 2023-04-25 发布于四川
  • 举报

半导体装置.pdf

    提供了一种半导体装置。所述半导体装置包括：基底，包括凹部；栅极绝缘层，位于凹部的表面上；第一栅极图案，位于栅极绝缘层上，并且填充凹部的下部；第二栅极图案，在凹部中位于第一栅极图案上，并且包括具有与第一栅极图案的逸出功不同的逸出功的材料；盖绝缘图案，位于第二栅极图案上，并且填充凹部的上部；泄漏阻挡氧化物层，在凹部在第一栅极图案的上表面上方的上侧壁处位于栅极绝缘层上，并且接触盖绝缘图案的侧壁；以及杂质区，位于基底中并且与凹部的上侧壁相邻，每个杂质区具有比第一栅极图案的上表面高的下表面。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114068685 A (43)申请公布日 2022.02.18 (21)申请号 202110589033.4 (22)申请日 2021.05.28 (30)优先权数据 10-2020-0

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >