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本发明公开了一种晶圆片清洗装置，包括清洗室，所述清洗室内装有液态的硅片清洁液；还包括主控器；所述清洗室的两个相对面的侧壁之间横向设置喷淋管，所述喷淋管与所述清洗室内壁滑动连接；所述喷淋管的底部开设一排直线型的若干喷淋孔，所述硅片清洁液在所述喷淋管内流通并从所述喷淋孔喷射出来；所述清洗室内还设有与所述主控器电性连接并受所述主控器电性控制的电动气缸，所述电动气缸的推动杆竖直向上，所述推动杆与圆形的晶圆片基座固定连接，所述晶圆片基座在所述推动杆的带动下在竖直方向上移动。本发明通过红外线检测到杂质时及时
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112916500 B
(45)授权公告日 2022.08.19
(21)申请号 202110099510.9 B08B 13/00 (2006.01)
(22)申请日 2021.01
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