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提出了一种用于光致材料沉积的方法，包括以下步骤：‑提供包含金属盐或金属离子的第一溶液(10)；‑提供包含光敏还原剂、例如半导体纳米颗粒的第二溶液(12)；‑将第一溶液(10)和第二溶液(12)混合，以在衬底(16)上形成试剂(14)；和‑将光源聚焦在试剂(14)上，以在光源的焦点处形成结实的沉积。还提出了一种用于执行这种方法的设备。此外，进一步提出了一种用于光致材料处理的方法以及一种相应的设备。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113005433 A
(43)申请公布日 2021.06.22
(21)申请号 202011517195.9 B33Y 10/00 (2015.01)
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