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第一章习题
设晶格常数为 a 的一维晶格,导带极小值附近能量 E (k)和价带极大值附近
c
能量 E (k)分别为:
V
h2 k 2 h2 (k ? k
)2 h2 k 2
3h2 k 2
E = ?
1 , E (k) ? 1 ?
c 3m
0
m V 6m m
0 0 0
?
m 为电子惯性质量,k ?
0 1
, a ? 0.314nm。试求:
a
禁带宽度;
导带底电子有效质量;
价带顶电子有效质量;
价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化解:(1)
导带:
2?2 k 2?2 (k ? k )
由 ???1 ? 0
3m m
0 0
得:k ? 3 k
4 1
d 2 E
又因为: c
? 2?2 ? 2?2 ? 8?2 ? 0
dk 2
3m m 3m
0 0 0
所以:在k ?
价带:
3 k处,Ec取极小值
4
VdE ? ? 6?2 k ? 0得k ? 0
V
dk m
0
d 2 E
6?2
又因为
V ? ? ? 0, 所以k ? 0处,E
取极大值
dk 2 m
0
3
V
?2 k 2
因此:E
g
? E ( k
C 4 1
) ? E
V
(0) ?
1
12m
? 0.64eV
0
(2)m* ?
nC
?2d 2 ECdk 2
?2
d 2 E
C
dk 2
3
? 3 m
8 0
(3)m* ?
? ? m0
?2d 2
?2
d 2 E
V
dk 2
1k ?0
1
(4)准动量的定义:p ? ?k
3
所以:?p ? (?k )
3k ? k
3
? (?k )
k ?0
? ? k
4 1
? 0 ? 7.95 ?10?25 N / s
4 1
晶格常数为的一维晶格,当外加 102V/m,107 V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据: f ? qE ? h ?k 得?t ?
?t
??k
qE
?t ?
1
?t ?
2
?(0 ? ? )
a
? 1.6 ?10?19 ?102
?(0 ? ? )
a
? 1.6 ?10?19 ?107
? 8.27 ?10?8 s
? 8.27 ?10?13 s
补充题 1
分别计算 Si(100),(110),(111)面每平方厘米内的原子个数,即原子面密度
(提示:先画出各晶面内原子的位置和分布图)
Si 在(100),(110)和(111)面上的原子分布如图 1 所示:
(a)(100)晶面 (b)(110)晶面
(c)(111)晶面
补充题 2
一维晶体的电子能带可写为 E(k ) ?
?2
ma 2
( 7 ? cos ka ? 1 cos 2ka),
8 8
式中 a 为 晶格常数,试求
布里渊区边界;
能带宽度;
电子在波矢 k 状态时的速度;
能带底部电子的有效质量m * ;
n
能带顶部空穴的有效质量m *
p
dE(k )
解:(1)由
? 0 得 k ? n?
(n=0,
dk a
1, 2…)
进一步分析k ? (2n ? 1) ?
a
,E(k)有极大值,
E(k )
MAX
?
? 2?2
ma 2
k ? 2n
时,E(k)有极小值
a
?
所以布里渊区边界为k ? (2n ? 1)
a
(2)能带宽度为 E(k )
MAX
E(k )
MIN
? 2?2
ma 2
1 dE ??1
(3)电子在波矢k 状态的速度v ?
电子的有效质量
?2 m
? dk
? (sin ka ?
ma
sin 2ka)
4
m* ?
n
?
d 2 E 1(cos ka ? cos 2ka
d 2 E 1
dk 2 2
2n?
能带底部 k ?
a
所以m*
n
? 2m
(5)能带顶部 k ?
(2n ? 1)?
,
a
且 m*
p
? ?m* ,
n
2m
所以能带顶部空穴的有效质量m* ?
p 3
半导体物理第 2 章习题
实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么?
答:(1)理想半导体:假设晶格原子严格按周期性排列并静止在格点位置上,实际半导体中原子不是静止的,而是在其平衡位置附近振动。
理想半导体是纯净不含杂质的,实际半导体含有若干杂质。
理想半导体的晶格结构是完整的,实际半导体中存在点缺陷,线缺陷和面缺陷等。
以 As 掺入 Ge 中为例,说明什么是施主杂质、施主杂质电离过程和 n 型半导体。
As 有 5 个价电子,其中的四个价电子与周围的四个Ge 原子形成共价键,还剩余一个电子,同时 As 原子所在处也多余一个正电荷,称为正离子中心,所以, 一个 As 原子取代一个 Ge 原子,其效果是形成一个正电中心和一个多余的电子. 多余的电子束缚在正电中心,但这种束缚很弱
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