不同口腔酸碱环境下刷牙对釉质磨损影响的体外研究.docxVIP

不同口腔酸碱环境下刷牙对釉质磨损影响的体外研究.docx

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? ? 不同口腔酸碱环境下刷牙对釉质磨损影响的体外研究 ? ? 张明爽 巴特 赵强 [Summary] 目的 研究晨起后不同時间唾液pH的动态变化及相应pH环境下刷牙对釉质磨损的影响。 方法 2019年3月10—15日,检测航空总医院180名医护志愿者5 d晨起后不同时间点唾液pH值动态变化(T1:晨起后立即,T2:晨起后5 min,T3:晨起后10 min);2019年6—9月,将从航空总医院口腔外科收集的离体牙制备成釉质基块,经筛选后分为两组,对照组(n = 9)和实验组(n = 10)分别使用pH=6.8、5.8的处理液浸泡。每8小时进行1次刷牙磨损实验。重复实验14 d后,检测样本的磨损深度和表面形貌。 结果 180名健康人群晨起后T1、T2、T3时唾液pH值比较,差异有统计学意义(F = 1.35,P = 0.01)。与T1时比较,T2、T3时唾液pH值升高,差异有统计学意义(P 0.05);与T2时比较,T3时唾液pH值升高,差异有统计学意义(P 0.05)。磨刷后两组磨损深度较磨刷前均升高,且实验组高于对照组,差异有统计学意义(P 0.05)。扫描电镜图示实验组表面形态更粗糙。 结论 晨起后立即时口腔pH值偏低成弱酸性,该环境下刷牙,釉质表面磨损增加。晨起后10 min时唾液pH保持稳定并接近中性,该环境下刷牙,釉质表面磨损较小。 [Key] 釉质;磨损;刷牙;酸碱度 [] R781.2 ? ? ? ? ?[] A ? ? ? ? ?[] 1673-7210(2020)08(c)-0024-04 In vitro study on the effect of tooth brushing on enamel wear under different oral pH ZHANG Mingshuang1 ? Ba Te2 ? ZHAO Qiang2 1.College of Stomatology, Weifang Medical University, Shandong Province, Weifang ? 261021, China; 2.Department of Oral, Aviation Genral Hospital, Beijing ? 100020, China [Abstract] Objective To study the dynamic changes of salivary pH and the effect of tooth brushing on enamel wear in different pH environments. Methods From March 10 to 15, 2019, the dynamic changes of saliva pH in 180 medical volunteers in General Hospital at different time points after morning rise were detected for five days (T1: immediately after morning rise, T2:five minutes after morning rise, T3: 10 min after morning rise). From June to September 2019, the isolated teeth collected from the Department of Dental Surgery, Aviation General Hospital were prepared into enamel bases, and after screening, they were divided into two groups: the control group (n = 9) and the experimental group (n = 10), which were soaked with pH=6.8 and 5.8 respectively. The brushing wear experiment was carried out every eight hours. After repeating the experiment for 14 days, the wear depth and surface morphology of the samples were detected. Results There were statistically significant differences in salivary pH values at T1, T2 and

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