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本发明公开了一种半导体装置,半导体装置包括:漂移层;耐压环;多晶硅场板,多晶硅场板设置于耐压环的表面的上方,多晶硅场板开设有第一过孔;第一介质层,第一介质层设置于多晶硅场板表面上方,第一介质层开设有第二过孔和第三过孔,第二过孔和第一过孔相对应,第三过孔和第二过孔在第一介质层的表面间隔设置;金属场板,金属场板设置于第一介质层表面上方,金属场板设置有第一电连接凸起和第二电连接凸起,第一电连接凸起依次穿设第二过孔和第一过孔且与耐压环电连接,第二电连接凸起穿设第三过孔且与多晶硅场板电连接。由此,可以使耐
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117116974 A
(43)申请公布日 2023.11.24
(21)申请号 202311118361.1
(22)申请日 2023.08.31
(71)申请人 海信家电集团股份有限公司
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