《高纯钛溅射环》（送审稿).docx

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高纯钛溅射环

1范围

本文件规定了电子薄膜制造用高纯钛溅射环的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、

贮存、质量证明书和合同或订货单内容。

本文件适用于电子薄膜制造用的高纯钛溅射环(以下简称“钛环”)。

2规范性引用文件

下列文件对本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文件。

凡是不注日期的引用文件，其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。

GB/T1031产品集合技术规范(GPS)表面结构轮廓法表面粗糙度参数及其数值

GB/T4698.7海绵钛、钛及钛合金化学分析方法氧量、氮量的测定

GB/T4698.14海绵钛、钛及钛合金化学分析方法碳含量的测定

GB/T4698.15海绵钛、钛及钛合金化学分析方法氢含量的测定

GB/T6394金属平均晶粒度晶粒尺寸测定法

YS/T891高纯钛化学分析方法痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法

YS/T893电子薄膜用高纯钛溅射靶材

3术语与定义

下列术语和定义适用于本文件。

3.1

溅射环SputteringCoil

溅射沉积设备中的环形装置。

注：该装置在靶材溅射过程中修正参与溅射的分子、原子或离子的运动轨迹，并吸附大颗粒。

3.2

凸台Knob/Pin

环外侧用来安装固定环体的部分。

注：环与凸台可以通过焊接(如电子束焊等)、机械复合等方式连接。

4分类

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4.1产品分类

4.1.1钛环按照化学成分分为2个牌号：4N5-Ti与5N-Ti。

4.1.2产品通常分为一体型与拼接型两种(分别用A和S表示),如图1所示，或由需方提供图纸。

凸台

a)A型环b)S型环

图1高纯钛溅射环结构示意图

5技术要求

5.1化学成份

产品的化学成分应符合表1的规定。

表1高纯钛溅射环的化学成分

牌号

4N5-Ti

5N-Ti

Ti/%,不小于

99.995

99.999

金属杂质/×104%,不大于

Ag

0.2

0.2

Al

5.0

2

B

0.1

0.1

Ca

2.0

1.0

Co

1.0

0.1

Cr

5.0

1.0

Cu

2.0

1.0

Fe

15.0

7.0

K

0.1

0.1

Li

0.1

0.1

Mg

1.0

0.1

Mn

1.0

0.3

Mo

4.0

0.5

Na

0.2

0.1

Ni

5.0

0.5

Pb

2.0

0.1

Si

5.0

2.0

Sn

2.0

1.0

Th

0.001

0.001

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U

0.001

0.001

V

1.0

1.0

W

1.0

0.5

Zn

1.0

0.5

Zr

5.0

1.0

气体元素/×104%,不大于

C

50

40

H

10

10

N

50

50

O

300

250

S

10

10

5.1.1钛的含量为100%减去表中金属杂质实测总和的余量(不包含C、N、0、S、H)。

5.1.2需方如对钛环的化学成分有特殊要求时，可由供需双方商定。

5.2晶粒尺寸

产品的晶粒尺寸应符合表2规定，需方如有特殊要求时，由供需双方商定，并在订货单中注明。

表2高纯钛溅射环晶粒尺寸要求

单位为微米

平均值

最大值

≤750

≤1000

5.3表面粗糙度

钛环表面粗糙度Ra值通常不大于0.8um,有特殊规定或要求，可由供需双方商定。

5.4外形尺寸

钛环外形尺寸一般，符合表3的规定，需方有特殊要求时，由供需双方商定。

表3高纯钛溅射环的外形尺寸及其允许偏差

单位为毫米

外形

外形尺寸

环体外径

环体厚度

环体高度

圆形

φ284-φ289

3~5

50~52

φ391~φ392

6~7

76~77

5.5外观质量

产品表面应清洁光滑，无指痕、油污、锈蚀、颗粒附加物和其他沾污，无凹坑、划伤、裂纹、凸起等缺陷。环与凸台一般通过电子束焊接，要求焊接处无气孔、孔洞、缝隙等缺陷。

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6试验方法

6.1化学成分的分析方法

6.1.1金属杂质元素分析方法采用YS/T891辉光放电质谱法测定，或由供需双方协商确定。

6.1.2化学元素C、N、0、S、H的分析按照GB/T4698.14、GB/T4698.7、GB/T4698.15的规定执行。

6.2晶粒尺寸检验

产品的晶粒尺寸检验按照GB/T6394进行观察、评定和确认。若需方有特殊要求，经双方确认后，

方可生产。

6.3表面粗糙度检验

产品的表面粗糙度检测通过粗糙度测量仪，按照GB/T1031规定进行测量，或按照供需双方约定的方法测定。

6.4外形尺寸检验