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高Q值全金属MEMS电感的设计与制备研究的中期报告
一、研究背景和目的
全金属MEMS电感在微电子领域中具有广泛的应用，但传统的制作方法主要是通过电化学腐蚀法，其制造复杂，且受到精度、成本和可靠性等方面的限制，因此，需要寻找一种新的制造方法。本研究旨在探索一种制造高Q值全金属MEMS电感的新方法，并分析其性能。
二、研究方法
1.设计结构：采用动态仿真软件COMSOL进行三维建模，并基于MEMS制造工艺进行结构设计。
2.制备工艺：采用激光微加工和微电子加工技术，进行薄膜沉积、铜电镀、光刻和蚀刻等工艺步骤，制备全金属MEMS电感。
3.性能测试：利用矢量网络分析仪对MEMS电感的频率响应、Q值和功率承受能力等性能进行测试和分析。
三、预期结果
1.设计出低损耗、高品质因数的全金属MEMS电感结构。
2.研究出一种高效、低成本、高精度的新型制造方法。
3.制备出高可靠性和稳定性的MEMS电感，并验证其性能。
四、进展情况
1.已完成三维结构的设计和优化，并开始进行制备工艺的研究。
2.初步实现了微电子加工技术，进一步进行激光微加工技术的研究探讨。
3.正在准备性能测试和分析的方案，准备对制备好的样品进行测试。
五、存在问题
1.制造工艺复杂，制备周期较长。
2.存在一定制备难度，需要进一步完善工艺步骤。
3.采用新型制造方法需要进一步证明其可靠性以及对电感性能的影响。
六、下一步工作
1.继续探索合适的制备方案，进一步优化工艺流程，提高制备成功率。
2.完成模型设计，开始实现样品制备。
3.对制备好的样品进行性能测试和分析。
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