不同温度下氮化铬薄膜的疏水性能研究.pdfVIP

第61卷第1期真空VACUUMVol.61，No.1

2024年1月Jan.2024

不同温度下氮化铬薄膜的疏水性能研究*

赵祯赟，陈定君，郭圆萌，杨皓，东帅，孙铁生，黄美东1211111

（1.天津师范大学物理与材料科学学院，天津300387；2.重庆公共运输职业学院，重庆402247）

摘要：利用电弧离子镀膜技术，以硅片、不锈钢、玻璃片为基底，在脉冲偏压分别为50V、100V、150V

的条件下制备了三组氮化铬薄膜样品，对其物相、表面形貌、力学性能及不同温度下的疏水性能进行了

分析研究。结果表明：所制备薄膜样品组分单一，表面存在些许“大颗粒”，当脉冲偏压为100V时“大颗

粒”数量最多；氮化铬薄膜力学性能优良，150V脉冲偏压下沉积的薄膜具有较高的硬度和杨氏模量，

50V脉冲偏压样品具有较高的膜基结合力；常温（20℃）下薄膜疏水性均较好，基底材料对疏水性能影

响不大；各组薄膜疏水性能随环境温度的增加而降低，当环境温度上升至80℃时脉冲偏压为50V的薄

膜丧失疏水性能,脉冲偏压为100V的薄膜样品疏水性能整体较优。

关键词：氮化铬薄膜；温度；疏水性能；力学性能

中图分类号：TB79文献标识码：A文章编号：1002-0322（2024）01-0027-07

doi：10.13385/j.cnki.vacuum.2024.01.04

HydrophobicPropertiesofChromiumNitrideThinFilmsatDifferentTemperatures

ZHAOZhen-yun,CHENDing-jun,GUOYuan-meng,YANGHao,DONGShuai,SUNTie-sheng,121111

HUANGMei-dong1

（1.CollegeofPhysicsandMaterialsScience,TianjinNormalUniversity,Tianjin300387,China;

2.ChongqingVocationalCollegeofPublicTransportation,Chongqing402247,China）

Abstract：Arcionplatingwasadoptedtopreparethreesetsofchromiumnitride(CrN)thinfilmswithpulsedbiasvoltagesof50,

100,and150V,respectivelyonsilicon,stainlesssteelandglasssubstrates.Thephasecomponents,surfacemorphology,mechanical

propertiesandhydrophobicityatdifferenttemperaturesofthefilmswereanalyzed.Theresultsshowthattheas-preparedsamples

presentapurecomponent,andtherearesomemacro-particlesonthesurfaceofthefilms.Thefilmsfabricatedat100Vshow

excellentmechanicalpropertiesdespitetherearealotofmacro-particlesonthesurface.Thefilmsfabricatedat150Vhavehigh

hardnessandexcellentYoungmodulus,whilethefilmsfabricatedat50Vhav