扫描电子显微镜成像特点及样品制备.pptVIP

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  • 2024-04-23 发布于广东
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扫描电子显微镜成像特点及样品制备.ppt

表面形貌衬度由于二次电子信号主要来自样品表层5-l0nm深度范围,它的强度与原子序数没有明确的关系,适用于显示形貌衬度。入射电子束与试样表面法线间夹角愈大,二次电子产额愈大.第31页,共51页,2024年2月25日,星期天第32页,共51页,2024年2月25日,星期天背散射电子信号对表面形貌的变化不那么敏感,分辨率不如二次电子像高,信号强度低。第33页,共51页,2024年2月25日,星期天(2)原子序数衬度原子序数衬度又称为化学成分衬度,它是利用对样品微区原子序数或化学成分变化敏感的物理信号作为调制信号得到的一种显示微区化学成分差别的像衬度。这些信号主要有背散射电子、吸收电子和特征X射线等。第34页,共51页,2024年2月25日,星期天(1)背散射电子像衬度

样品表面上平均原子序数较高的区域,产生较强的信号,在背散射电子像上显示较亮的衬度。背散射电子产率二次电子产率第35页,共51页,2024年2月25日,星期天(2)吸收电子像衬度

η+δ+α=1η:背散射,δ:二次α:吸收因此可以认为,样品表面平均原子序数大的微区,背散射电子信号强度较高,而吸收电子信号强度较低,两者衬度正好相反。第36页,共51页,2024年2月25日,星期天背散射电子像吸收电子像奥氏体铸铁的显微结构在背散射电子像上的石墨条呈现暗的衬度,而在吸收电子像上呈现亮的衬度。第37页,共51页,2024年2月25日,星期天表面形貌衬度的应用基于二次电子像(表面形貌衬度)的分辨率比较高且不易形成阴影等诸多优点,使其成为扫描电镜应用最广的一种方式,尤其在失效工件的断口检测、磨损表面观察以及各种材料形貌特征观察上,已成为目前最方便、最有效的手段。第38页,共51页,2024年2月25日,星期天1.材料表面形态(组织)观察第39页,共51页,2024年2月25日,星期天2.断口形貌观察第40页,共51页,2024年2月25日,星期天2.断口形貌观察第41页,共51页,2024年2月25日,星期天3.磨损表面形貌观察第42页,共51页,2024年2月25日,星期天4.纳米结构材料形态观察第43页,共51页,2024年2月25日,星期天5.生物样品的形貌观察第44页,共51页,2024年2月25日,星期天第45页,共51页,2024年2月25日,星期天原子序数衬度像第46页,共51页,2024年2月25日,星期天SEM的特点SEM成像的物理信号SEM的构造与工作原理SEM的主要性能SEM像衬度SEM样品制备第47页,共51页,2024年2月25日,星期天SEM样品制备

SEM固体材料样品制备方便,只要样品尺寸适合,就可以直接放到仪器中去观察。样品直径和厚度一般从几毫米至几厘米,视样品的性质和电镜的样品室空间而定。第48页,共51页,2024年2月25日,星期天对于绝缘体或导电性差的材料来说,则需要预先在分析表面上蒸镀一层厚度约10~20nm的导电层。

否则,在电子束照射到该样品上时,会形成电子堆积,阻挡入射电子束进入和样品内电子射出样品表面。第49页,共51页,2024年2月25日,星期天

导电层一般是二次电子发射系数比较高的金、银、碳和铝等真空蒸镀层。

在某些情况下扫描电镜也可采用复型样品。第50页,共51页,2024年2月25日,星期天感谢大家观看第51页,共51页,2024年2月25日,星期天关于扫描电子显微镜成像特点及样品制备SEM的特点SEM成像的物理信号SEM的构造与工作原理SEM的主要性能SEM像衬度SEM样品制备第2页,共51页,2024年2月25日,星期天扫描电镜的成像原理,和透射电镜大不相同,它不用什么透镜来进行放大成像,而是象闭路电视系统那样,逐点逐行扫描成像。第3页,共51页,2024年2月25日,星期天特点仪器分辨本领较高。二次电子像分辨本领可达1.0nm(场发射),3.0nm(钨灯丝);仪器放大倍数变化范围大(从几倍到几十万倍),且连续可调;图像景深大,富有立体感。可直接观察起伏较大的粗糙表面(如金属和陶瓷的断口等);试样制备简单。块状或粉末的试样不加处理或稍加处理,就可直接放到SEM中进行观察,比透射电子显微镜(TEM)的制样简单。第4页,共51页,2024年2月25日,星期天SEM的特点SEM成像的物理信号SEM的构造与工作原理SEM的主要性能SEM像

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