北方华创-市场前景及投资研究报告-刻蚀薄膜沉积清洗热处理平台，国产战略发展.pdf

2024年07月15日公司研究●证券研究报告

北方华创（002371.SZ）深度分析

电子|半导体设备Ⅲ

塑造刻蚀/薄膜沉积/清洗/热处理平台企业，深投资评级买入-A(维持)

度受益战略发展股价(2024-07-12)328.57元

交易数据

投资要点总市值（百万元）174,477.13

北方华创立足半导体基础产品领域，深耕半导体装备、真空及锂电装备和精密电子元流通市值（百万元）174,325.58

器件等业务领域，现有六大研发生产基地，致力于成为半导体基础产品领域值得信赖总股本（百万股）531.02

的引领者。其半导体装备产品包括刻蚀机/PVD/ALD/CVD/氧化/扩散炉/清洗机/气体质流通股本（百万股）530.56

量流量计等，设备需求上行国产进程加速背景下，公司将充分受益其全产业链布局。12个月价格区间330.46/222.88

布局刻蚀/薄膜沉积/清洗/热处理四大应用领域，打造半导体设备平台型企业。半导

一年股价表现

体设备处于产业链上游，支撑制造和封装测试，半导体行业技术高、进步快，一代

产品需要一代工艺，一代工艺需要一代设备，半导体设备是半导体产业的技术先导

者，通常半导体设备的研发领先半导体工艺3~5年。制造半导体芯片过程主要包

括晶圆加工、刻蚀、光刻、沉积、离子注入、金属化等多个工艺步骤。北方华创设

备涉及刻蚀/薄膜沉积/清洗/热处理四大应用领域，广泛应用于集成电路、先进封装、

半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏、平板显示等

领域，为半导体、新能源、新材料等领域提供解决方案。随着公司设备平台型布局

完善，公司将充分受益于半导体产业链自主可控发展战略。

资料：聚源

刻蚀设备：ICP突破12英寸各技术节点，CCP实现逻辑/存储/功率多关键制程覆升幅%1M3M12M

盖。（1）ICP：北方华创先后攻克了电感耦合脉冲等离子体源、多温区静电卡盘、相对收益3.9913.6821.14

双层结构防护涂层和反应腔原位涂层等技术难题，实现了12英寸各技术节点的突绝对收益2.0413.5810.2

破。公司多晶硅及金属刻蚀系列ICP设备实现规模化应用，完成了浅沟槽隔离刻

蚀、栅极掩膜刻蚀等多道核心工艺开发和验证，助力国内主流客户技术通线，已实

现多个客户端大批量量产并成为基线设备。（2）CCP：北方华创集成电路领域CCP

介质刻蚀设备实现了逻辑、存储、功率半导体等领域多个关键制程的覆盖，为国内

主流客户提供了稳定、高效的生产保障，赢得客户信赖和认可。

薄膜沉积：全面布局PVD/CVD/ALD等产品技术，提供前沿产品与创新解决方案。

（1）PVD:北方华创集成电路领域铜互连、铝垫层、金属硬掩膜、金属栅、硅化物

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（Silicide）等工艺设备在客户端实现稳定量产，成为多家客户的基线设备，并广泛