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基于表示学习的引证网络关键路径识别研究

作者：孙晓玲杨颂颂

来源：《科学与管理》2022年第04期

关键词：主路径分析：技术演化脉络：Doc2Vec：引证网络

引言0

2020年，国务院印发《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》

（以下简称《若干政策》），强调集成电路产业和软件产业是引领新一輪科技革命和产业变革

的关键力量。一系列促进集成电路产业和软件产业高质量发展的相关政策以及全面优化完善高

质量发展芯片和集成电路产业的有关环境政策的发布，表明了我国政府高度重视芯片产业、集

成电路产业的高质量发展，并在各行各业对该领域发展进行大力扶持。2016年由国际知名专

利检索公司QUESTEL发布的《芯片行业专利分析及专利组合质量评估》中指出，在数量上中

国已经成为目前世界上芯片专利申请的第一大国。虽然我国芯片专利申请数量排名连年居高，

但《若干政策》中指出，我国目前的芯片产量仍未有效满足各行各业对芯片的需求，在高端芯

片方面严重依赖于进口。姜迪等指出中国芯片制造工艺水平低下是芯片产业链中最为薄弱的环

节，芯片自给率低，芯片制造设备严重依赖进口。高端芯片制造的核心设备是极紫外

（ExtremeUltraviolet，简称为EUV）光刻机，全球能够生产EUV光刻机的只有荷兰的阿斯麦

以及日本的尼康、佳能。现阶段我国只能生产中低端光刻机，难以满足高端芯片制造的需求。

光刻机（也称光刻系统）是光刻技术的关键装备，光刻技术的发展大大提高了芯片的计算速度

及存储量，可以说光刻技术是促进芯片产业和集成电路及相关产业发展的关键核心技术。

技术和知识资产优势在发达国家与发展中国家博弈中占有压倒一切的核心地位与关键作

用。为了维持与发展中国家的技术差距，发达国家将以前的“技术封锁”战略转变为“技术锁定”

战略，使发展中国家形成了长期的技术依赖。随着中美贸易摩擦的加剧，美国进一步对我国关

键产业核心技术进行全方位封锁，因此，寻求产业核心技术的破解已经成为我国各界亟待解决

的战略性课题。要想破解我国光刻产业技术锁定难题，应当从光刻技术领域知识发展脉络人

手，研究光刻技术领域发展历程。随着科学技术的迅猛发展和经济社会的持续进步，科技文献

信息正以惊人的速度不断增长。由于科学技术的更新换代和知识的新陈代谢，大量现有科技文

献信息的利用价值也正以不同的速度逐步减少。如何快速准确地发现领域内具有重要影响的知

识演化脉络，以支撑未来的科技创新与科技决策，成为目前研究者关注的焦点。

我国光刻技术领域正处于被技术封锁的困局中，识别知识流动脉络以及探索光刻产业核心

技术发展规律是值得深入研究的方向。在识别知识流动脉络的过程中不仅可以建立起整个领域

的发展骨架，观察到整个领域的发展全貌，而且可以帮助研究者识别出该领域的重要根源文

献，并且得到重要根源文献在时序上的知识流动关系。本文应用社会网络分析方法建立起技术

引证网络，在此基础上，将主路径方法以及文本挖掘方法应用于关键主路径方法中，通过对核

心文献和非核心文献相似度的大小归类文献，不仅可以避免丢失非核心文献的知识演化过程，

而且可以提高整个引证网络的链接强度，得到更为聚集的文献群落。在此引证网络的基础上可

以快速得到各自方向的关键主路径，进而得到每一条知识流动路径。探索光刻产业核心技术发

展规律可以帮助研究者快速掌握光刻产业领域技术演化轨迹，为更早发现创新型技术方向提供

可能，为我国实现技术突破提供方法参考。

相关研究1

最早提出引文网络主路径方法的是Hummon和Doreian，他们从引文的关系出发而非节点

之间的相似性来挖掘主要事件、主要理论和主要任务，提出了NPPC、SPLC和SPNP三种遍

历算法以生成主路径。

基1.1于遍历权重算法的主路径分析

在NPPC、SPLC和SPNP算法以及社会网络分析理论基础上，V．Batagelj进一步深化了

主路径分析方法，并提出了此后在多数领域应用中最为主流且与NPPC、SPLC和SPNP等价

的SPC算法。SPC算法通过遍历某条边所有从源节点到尾结点的次数计算出这条边的权重

值。相比于NPPC、SPLC和SPNP，SPC可以更快地计算出每条边的权重，提高了运算效率。

Wang等使用SPC算法从知识来源多样性和技术领域多样性角度出发进一步研究了知识演变，

取得了很好的效果。

除了早期的NPPC、SPLC和SPNP算法外，后续出现了基于SPNP和SPLC的最优主路径