《硅材料中氢含量的测定 惰性气体熔融热导法》.pdf

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硅材料中氢含量的测定惰性气体熔融热导法

1范围

本文件规定了惰性气体熔融热导法测定硅材料中氢含量的方法。

本文件适用于硅材料中氢含量的测定，测定范围为0.05μg/g～25000μg/g。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，

仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本

文件。

GB/T4842—2017氩

GB/T8170数值修约规则与极限数值的表示和判定

GB/T8979—2008纯氮、高纯氮和超纯氮

GB/T11446.1—2013电子级水

3术语和定义

本文件没有需要界定的术语和定义。

4原理

试样进入经脱气的高纯石墨坩埚，在惰性气氛下加热熔融，试样中的氢以分子的形式随载气

流入热导池中检测，根据桥电流的变化，计算出样品中的氢含量。

5干扰因素

5.1试样表面清洁度会影响检测结果，如果在取样和制样过程中试样受到污染，则试样在分析前需用

合适的溶剂，例如优级纯或光谱纯的无水丙酮、无水乙醇清洗表面，再用电子级水清洗并干燥。

5.2载气的热导率会影响检测器的灵敏度，宜使用与氢气热导率差别较大的氮气或氩气，以提高测定

结果的准确度。

5.3试样中氢的释放除选择合适加热温度外，宜加入锡片助熔，保证氢充分释放，以提高测定结果的

准确度。

5.4石墨坩埚和助熔剂的杂质元素可能会吸收一部分释放出的氢，石墨坩埚和助熔剂的氢含量也会影

响分析数据的准确度，宜使用高纯石墨坩埚和高纯锡片助熔剂。

6试剂和材料

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6.1电子级水：符合GB/T11446.1—2013中EW-Ⅲ级。

6.2载气和动力气：氮气符合GB/T8979—2008中高纯氮的要求，氩气符合GB/T4842—2017中高纯

氩的要求。

6.3高纯镍囊：用于包裹样品颗粒进样，尺寸为10mm（高）×6mm（直径）的圆柱体，氢释放量低

于0.2μg。

6.4标准物质/标准样品：氢含量已被定值并有证书的硅中氢标准物质/标准样品、钛中氢标准物质/

标准样品、钢中氢标准物质/标准样品等。

6.5锡片：片状，单片重量为0.5g,氢释放量低于0.15μg。

6.6清洗剂：优级纯或光谱纯，适用于清洗或清洁受污染的试样，例如，无水丙酮，无水乙醇等。

6.7石墨坩埚：使用由内坩埚（一次性）和外坩埚组合而成的石墨套坩埚,氢释放量低于0.2μg。

7仪器设备

7.1氢分析仪：由电极炉或感应炉、分析气流杂质去除系统、粉尘净化系统和热导池氢测量系统组成，

氢测量精密度优于0.05μg。

7.2电子天平：分度值为0.1mg。

8试验条件

8.1温度：20℃±5℃。

8.2相对湿度：不大于60%。

9试样

9.1试样应能通过进样口进入石墨坩埚，如果尺寸过大可用钨锤或其他工具敲击成合适尺寸。

9.2如果在取样和制样过程中试样受到污染，则试样在测定前应用合适的清洗剂（6.6）清洗表面，干

燥后立即测定。

10试验步骤

10.1仪器准备

仪器开机确认仪器上流量计和压力表显示满足要求。检查仪器的分析气流杂质去除试剂（碱石棉、

无水高氯酸镁）、粉尘净化过滤器是否有效，若失效及时更换。

10.2空白试验

试样测定前应进行空白实验，按步骤10.4.2～10.4.3将高纯镍囊通过进样口放入高纯石墨坩埚中进

行测定，重复以上步骤不少于3次，取平均值记为高纯镍囊空白测定的氢含量值。

10.3工作曲线的绘制

试样测定前，根据试样中氢含量的预估值，选取一个氢含量与待测试样相当的标准物质/标准样品

（6.4），按步骤10.4.1～10.4.3进行3次测定，计算3次标准物质/标准样品（6.4）测定结果的算术

平均值，根据标准物质/标准样品（6.4）测定结果的算术平均值和标准值进行仪器校正。