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摘要
第三代半导体SiC具有高击穿场强、高热导率、高禁带宽度等优异物理特
性,广泛应用在高功率器件领域。直接键合覆铝陶瓷基板(DBA)比DBC有更
高的可靠性。因此,在高功率模块封装过程中将SiC与DBA基板进行低温连
接具有广阔的应用前景。目前SiC与DBA基板低温连接方法有纳米Ag烧结及
应力迁移键合两种。纳米Ag烧结具有电迁移问题、应力迁移键合连接时间长,
且均需表面金属化,工艺复杂。本文针对Al/SiC陶瓷接头残余应力较大、Al
合金低温氧化膜难破除、SiC陶瓷低温难润湿问题,基于超声空化效应,采用
低温非活性Sn基钎料,利用母材Al溶解扩散后与SiC陶瓷发生活化反应,实
现Al与SiC陶瓷的低温直接连接。研究超声场下液态Sn或Sn-9Zn对母材Al
溶解扩散过程规律,揭示钎料/SiC陶瓷界面连接结构及连接机制,分析超声对
钎料/SiC陶瓷界面活化反应的促进作用。
基于溶解扩散动力学理论,建立相应物理数学模型,研究母材Al溶解行
为及Al元素在液态钎料中扩散规律。基于Nernst–Brunner理论及菲克扩散定
律,数值求解得到母材Al溶解规律及Al元素在液态钎料中的分布规律。超声
作下Sn或Sn-9Zn对母材Al的溶解速率常数(K)比不施加超声提高~6倍、Al
L
在液态Sn或Sn-9Zn中极限溶解度(C)提高~4倍、扩散系数提高~7倍。纯
0
Sn钎料和Sn-9Zn钎料对比发现Sn-9Zn钎料对母材溶解速率常数、Al在液态
钎料中极限溶解度均略有提高。定量分析钎料/SiC陶瓷界面Al浓度变化规律,
超声场下钎料/SiC陶瓷界面Al浓度呈现指数变化规律,相比于没有施加超声,
界面Al浓度大幅度提高。并根据Miedema二元合金混合焓模型及正规溶体近
似相应热力学理论建立Al元素在液态钎料中的活度a与Al元素摩尔分数x之
AlAl
间的关系。
采用纯Sn或Sn-9Zn钎料超声钎焊1060Al与SiC陶瓷。钎料/SiC陶瓷界
面反应产物为非晶AlO,界面结构为SiC陶瓷/非晶AlO反应层/Sn基钎料。
2323
界面结合机制为Al与SiC陶瓷表面SiO2的置换反应,从反应热力学角度对Al
与SiO2置换反应进行计算,结果表明超声作用时间为5s时,界面处Al置换反
应就能够发生。从反应动力学角度分析,超声加速母材Al溶解及扩散,从而
提高钎料/SiC陶瓷界面处Al浓度,加快界面活化反应速率。随超声作用时间
增加,焊缝Al含量逐渐增多,接头抗剪强度随钎料/SiC陶瓷界面连接面积增
加而逐渐增大。采用纯Sn钎料,超声作用时间40s时,钎料/SiC陶瓷界面完
全实现连接,接头断裂在钎料/SiC陶瓷界面处,抗剪强度达18MPa。超声作用
时间进一步增加,接头抗剪强度基本保持不变,接头逐渐断裂在钎料/SiC陶瓷
界面附近钎料内。采用Sn-9Zn钎料,由于Zn对母材Al溶解扩散的促进作用,
加快接头形成速度,超声作用时间30s时,钎料/SiC陶瓷界面就完全实现连接,
接头断裂在钎料/SiC陶瓷界面处,抗剪强度达21MPa。再增加超声时间,抗剪
强度缓慢提高,超声作用时间100s时,接头完全断裂在钎料/SiC陶瓷界面附
近钎料内,抗剪强度达25MPa。钎料中Zn元素会在钎料/SiC陶瓷界面处发生
富集,从而强化钎料/SiC陶瓷界面,进而提高接头抗剪强度。
关键词:SiC陶瓷;Al合金;低温;超声辅助钎焊;连接机
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