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ECD—真空镀膜专用测温仪
目录
1、真空镀膜介绍错误!未指定书签。
1。1、真空的定义错误!未指定书签。
1。2、什么是真空镀膜技术错误!未指定书签。
1。3、真空镀膜技术的分类错误!未指定书签。
1.4、镀膜技术介绍错误!未指定书签。
1.4.1真空蒸镀错误!未指定书签。
1.4.2溅射镀膜错误!未指定书签。
1。4。3离子镀膜错误!未指定书签。
1.5镀膜材料错误!未指定书签。
2真空镀膜设备错误!未指定书签。
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2.1常见真空镀膜机(外形)错误!未指定书签。
2.2常用真空镀膜机错误!未指定书签。
2.3各国镀膜机现状错误!未指定书签。
2。4真空镀膜机设备参数错误!未指定书签。
2。5真空镀工艺参数错误!未指定书签。
3、镀膜工艺流程错误!未指定书签。
4、真空镀膜温度监测的必要性错误!未指定书签。
5、某客户AKT镀膜机介绍错误!未指定书签。
5.1AKT镀膜机错误!未指定书签。
5.2针对智能手机与平板电脑触屏的镀膜设备-AKTAristoTwin错误!未指定书签。
5。3某客户AKT镀膜机工艺参数错误!未指定书签。
5.4某客户测温方案错误!未指定书签。
5.5某客户镀膜机温度测试曲线错误!未指定书签。
5.5.1打靶错误!未指定书签。
5.5.2未进行打靶的温度曲线错误!未指定书签。
5。5.3进行打靶的温度曲线错误!未指定书签。
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1、真空镀膜介绍
1。1、真空的定义
真空指低于该地区大气压的稀薄气体状态。
处于真空状态下的气体稀薄程度通常用“真空度高”和“真空度低”来表示。真空度高
表示真空度“好”的意思。真空度低表示真空度“差”的意思。
低真空(一般在760-10托)
–3
中真空(一般在10-10托)
—3—8
高真空(一般在10—10托)
—8—12
超高真空(一般在10—10)
注:1标准大气压=760mmHg=760Torr
1标准大气压=101325Pa
1Torr=133Pa
1.2、什么是真空镀膜技术
在真空条件下利用某种方法,在固体表面上镀一层与基体材料不同的薄层材料,也可以
利用固体本身生成一层与基体不同的薄层材料。这就是真空镀膜技术。在固体表面上镀上一
层薄膜,就能使该基体材料具有许多新的物理和化学性能。因此,真空镀膜技术又称表面改
性技术。
1.3、真空镀膜技术的分类
主要分为湿式镀膜法和干式镀膜法。湿式镀膜法可分电镀法、化学镀法;干式镀膜法常
称真空镀膜法、气相沉积——物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition\PVD)和化学气相沉
积(ChemicalVaporDeposition\CVD)。
1。4、镀膜技术介绍
这里主要介绍一下物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition\PVD)镀膜技术,主要有以
下三种镀膜方法:
·真空蒸镀
·溅射镀膜
·电弧离子镀
1。4.1真空蒸镀
同液体一样,固体在任何温度下都会或多或少的气化(升华),形成该物质的蒸汽.在高
真空中,将镀料加热到高温,相应温度下的饱和蒸汽向上散发,蒸发原子在各个方向的通量
并不相等。基片设在蒸汽源的上方阻挡蒸汽流,蒸汽则在其上形成凝固膜。为了弥补凝固的
蒸汽,蒸发源要以一定的比例供给蒸汽。
1.4。2溅射镀膜
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溅射镀膜是指在真空室
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