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真空冷喷涂致密Al2O3陶瓷涂层微观结构的研究

王丽爽;周恒福;李成新;王豫跃;杨冠军;雒晓涛;李长久

【摘要】本文选用平均粒径为400nm的Al2O3陶瓷粉末,采用真空冷喷涂的方法

在玻璃基体上制备了涂层,采用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)以及

高分辨透射电镜(HR-TEM)等方法对真空冷喷涂氧化铝涂层的微观结构进行了深入

分析.结果表明,Al2O3颗粒主要是以单个颗粒作为沉积单元,喷涂颗粒高速碰撞基体

和已沉积涂层,发生了晶粒细化及塑性变形,在涂层的局部能够观察到由于粒子的强

烈撞击而形成的非晶组织.此外,由于粒子高速碰撞过程中发生塑性变形,涂层局部产

生了高密度的位错.

【期刊名称】《热喷涂技术》

【年(卷),期】2017(009)003

【总页数】10页(P36-45)

【关键词】真空冷喷涂;Al2O3涂层;微观结构;局部非晶化;塑性变形

【作者】王丽爽;周恒福;李成新;王豫跃;杨冠军;雒晓涛;李长久

【作者单位】西安交通大学材料科学与工程学院金属材料强度国家重点实验室,西

安710049;西安交通大学材料科学与工程学院金属材料强度国家重点实验室,西安

710049;西安交通大学材料科学与工程学院金属材料强度国家重点实验室,西安

710049;西安交通大学材料科学与工程学院金属材料强度国家重点实验室,西安

710049;西安交通大学材料科学与工程学院金属材料强度国家重点实验室,西安

710049;西安交通大学材料科学与工程学院金属材料强度国家重点实验室,西安

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710049;西安交通大学材料科学与工程学院金属材料强度国家重点实验室,西安

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【正文语种】中文

【中图分类】TG174.4

陶瓷薄膜具备优良的光、电、声以及生物等特性，因此在国民经济的各个领域得到

了较为广泛的应用。陶瓷薄膜的制备方法包括丝网印刷[1]，流延成型[2]，浆料旋

涂[3]等传统固相烧结法，以及脉冲激光法[4]，磁控溅射法[5]，电泳沉积法[6]等

先进薄膜制备方法。传统的固相法需要后续烧结且烧结温度通常大于1000℃，而

高温烧结使得材料容易发生相变、晶粒粗化等，难以制备具有纳米结构的陶瓷薄膜。

此外，高烧结温度也使其很难在低熔点基体上制备陶瓷薄膜，限制了其在电子器件

等领域的应用。先进薄膜制备方法可制备陶瓷薄膜，但由于其沉积效率低，材料成

分难以控制，且成本高等缺点，难以用于大规模生产。因此，能够在低温下实现陶

瓷薄膜的制备显得尤为重要。

上世纪八十年代，经过日本的Akedo教授等人的研究，诞生了一种在室温下制备

陶瓷涂层的技术即真空冷喷涂法[7-9]。在日本，真空冷喷涂又被称为气浮沉积法

(Aerosoldeposition)。作为一种新兴的陶瓷薄膜制备工艺，与其他涂层制备技术

相比，其具有沉积温度低，材料无相变，颗粒沉积速度低以及较高的沉积效率（通

常可达几百纳米至几微米每分钟）等优点，可用于高效率制备10μm以下多孔和

致密陶瓷薄膜。其中，可在较低的温度以及较低的颗粒速度下实现致密陶瓷涂层的

制备，且无需任何后处理，是真空冷喷涂方法的显著优势。图1总结了热喷涂以

及其它基于固态颗粒沉积方法在喷涂温度、颗粒速度以及颗粒粒径方面的对比，基

于固态颗粒沉积的方法包括：静电场颗粒碰撞沉积（EPID），气体沉积（GD），

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