2025年事业单位工勤技能-安徽-安徽无损探伤工一级（高级技师）历年参考题典型考点含答案解析.docxVIP

2025年事业单位工勤技能-安徽-安徽无损探伤工一级（高级技师）历年参考题典型考点含答案解析

一、选择题

从给出的选项中选择正确答案（共50题）

1、根据GB/T准，射线检测中当胶片黑度不足时，应优先采取哪种措施？A.增加胶片曝光时间B.提高胶片暗室冲洗温度C.更换更高感光度的胶片D.调整胶片与底片接触压力

A.增加胶片曝光时间

B.提高胶片暗室冲洗温度

C.更换更高感光度的胶片

D.调整胶片与底片接触压力

【参考答案】C

【解析】胶片黑度不足的直接原因是感光材料灵敏度不足，更换更高感光度胶片可快速解决。曝光时间不足（A）需配合显影调整，冲洗温度异常（B）会导致胶片脆化，接触压力不当（D）影响成像清晰度但非黑度主因。

2、磁粉检测中，发现磁化方向与缺陷方向平行时，应如何调整磁化方式？A.增大电流B.增加磁化C.采用交叉磁场D.使用导磁体

A.增大电流

B.增加磁化时间

C.采用交叉磁场

D.使用导磁体

【参考答案】C

【解析】平行磁化易导致漏磁场屏蔽，交叉磁场（C）可形成45°交变磁场，增强缺陷端部漏磁。增大电流（A）可能引发过热，延长磁化时间（B）无效，导磁体（D）仅适用于局部磁化。

3、UT检测中，当发现晶粒取向与声束平行时，应如何处理？A.调整探头角度B.使用横波检测C.增加耦合剂厚度D.更换更高频率探头

A.调整探头角度

B.使用横波检测

C.增加耦合剂厚度

D.更换更高频率探头

【参考答案】A

【解析】各向异性材料中平行晶粒会衰减纵波能量，调整探头角度（A）至晶界垂直方向可提升检测灵敏度。横波（B）适用于表面裂纹，耦合剂（C）仅改善接触，频率（D）需根据缺陷深度匹配。

4、当UT检测发现缺陷回波与波幅比超过30%时，应优先执行哪种处理？A.重新校准探头B.增加耦合剂C.延长检测时间D.更换晶片

A.重新校准探头

B.增加耦合剂

C.延长检测时间

D.更换晶片

【参考答案】A

【解析】回波异常首先排除设备因素，校准探头（A）可消除晶片老化或电路漂移误差。耦合剂（B）改善声束接触，检测时间（C）影响信噪比，晶片（D）需专业机构维修。

5、射线检测中，确定胶片黑度是否合格需通过哪种参数测量？A.对比度B.清晰度C.感光度D.显影时间

A.对比度

B.清晰度

C.感光度

D.显影时间

【参考答案】A

【解析】对比度（A）反映缺陷与基体灰度差异，是判断黑度合格的核心指标。清晰度（B）与颗粒度相关，感光度（C）决定曝光参数，显影时间（D）影响图像稳定性。

6、UT检测中，当缺陷深度超过50%声束波长时，应如何优化检测？A.使用高频探头B.增加耦合剂C.调整晶片角度D.延长扫查速度

A.使用高频探头

B.增加耦合剂

C.调整晶片角度

D.延长扫查速度

【参考答案】A

【解析】高频探头（A）提升分辨率，50%波长以下缺陷需0.25倍波长以上频率。耦合剂（B）改善接触，晶片角度（C）优化声束入射，扫查速度（D）影响覆盖率。

7、渗透检测中，哪种缺陷在湿润法检测中无法有效显示？A.表面划痕B.气孔C.夹渣D.未结合磁粉

A.表面划痕

B.气孔

C.夹渣

D未结合磁粉

【参考答案】B

【解析】气孔（B）内部渗透剂无法渗透，仅湿法检测显示表面缺陷。表面划痕（A）需显像显现，夹渣（C）需磁粉吸附，未结合磁粉（D）通过显像聚集。

8、当UT检测中缺陷回波出现双峰时，应首先考虑哪种原因？A.晶片损坏B.表面粗糙.缺陷边缘不规则D.耦合剂不足

A.晶片损坏

B.表面粗糙

C.缺陷边缘不规则

D.耦合剂不足

【参考答案】C

【解析】双峰多由缺陷边缘锐利导致声束反射，晶片损坏（A）会引发信号失真，表面粗糙（B）影响声束一致性，剂不足（D）导致声阻抗失配。

9、磁粉检测中，磁化后的铁磁性材料表面与磁粉接触时，缺陷会显示为（）。

A.磁粉聚集在材料表面

B.磁粉被材料吸收

C.磁粉在材料内部扩散

D.磁粉与材料完全融合

【参考答案】A

【解析】磁粉检测基于磁化后材料表面与磁粉的相互作用。缺陷处磁导率不同，导致磁粉在缺陷处聚集，形成可见的标记。B选项错误因磁粉无法材料吸收；C选项描述的是超声波检测中缺陷回波扩散现象；D选项不符合磁粉检测物理特性。

10、超声波检测中，检测厚度为25mm的碳钢时，常用的工作频率范围是（）。

A.2-5MHz

B.5-10

C.10-20MHz

D.20-30MHz

【参考答案】A

【解析】超声波频率与检测厚度成反比，25mm碳钢对应2-5MHz范围。高频（B选项）适用于薄壁检测（10mm），低频（C、D选项）用于大厚度检测（50mm）。需根据材料声速（约5900m/s）和公式