光刻铬版版材国产化技术与产业应用研究.pdfVIP

目录

一、总论

（一）项目概述

（二）项目的社会经济意义

（三）项目的优势和风险

（四）项目的计划目标

二、申报企业情况

（一）申报企业基本情况

（二）企业人员及开发能力论述

（三）企业财务经济状况

（四）企业管理情况

（五）企业发展思路

三、项目的技术可行性和成熟性分析

（一）项目的技术创新性论述

（二）项目的成熟性和可靠性论述

四、项目产品市场与竞争能力预测

（一）项目产品的主要用途

（二）国内企业投产和研制本项目的情况

（三）本项目的国内外竞争能力

五、项目的实施方案

（一）项目开发计划

（二）技术方案

（三）生产方案

（四）方案

（五）其它问题的解决方案

六、投资预算和筹措

（一）投资预算

（二）新增的筹措

（三）使用计划

七、经济、社会效益分析

（一）产品成本分析

（二）产品单位售价与预测

（三）经济效益分析

（四）项目投资评价

（五）社会效益分析

八、项目可行性编制说明

九、项目可行性的专家论证意见

一、总论

（一）项目概述：

1、项目名称：光刻铬版版材（LargeAreaCrMaskBlankfor

LaserDirectwriting）

2、创新点：首家综合运用以磁控溅射技术为主的多种技术批量

生产大面积高精度光刻铬版版材，自主研发大面积玻璃抛光工艺及多

槽连续超声工艺，保证了玻璃表面光洁无疵瑕，并且十分干净，

为成膜创造了必要的基本条件。

经小试生产证明，这种膜与玻璃的粘附力极强，耐磨擦，完全满

足后续工艺及使用的要求；膜结构致密，膜厚只要0.1u，即可

达到光掩膜的要求：针孔密度极低，十分适合于制作STN—LCD及

PDP等产品的光掩膜版。

经美精微自主研发这种铬版版材所用到的甩涂工艺，达到

了膜厚分布均匀，保证了激光扫描自动的要求，而且光膜与铬面

粘附十分牢固，显影，无需坚膜，直接刻蚀，就可以得到完美的

线宽及线距。

这种自主开发的平行平面双面镀膜生产线，可使生产效率成

倍提高；因磁流体驱动并配合齿轮齿条传动系统，基片运行非常稳定；运

用德国莱宝WAUROOTSPUMP泵组并配以涡轮分子泵组成无油超

高真空获得系统，工艺控制稳定且可形成高品质的铬膜；全过程实现

了PLC全自动程序化控制，可大大提高工艺控制和产品生产的可重

复性。

3、技术水平：国内先进

4、主要用途及范围：适用于激光光刻机（LaserDirectwriter）

制作高精度、大尺寸铬版掩膜版，主要应用于各类显示器件（LCD、

VFD、PDP等）、HDI-PCB、、IC封装，光栅尺等光刻工

艺过程。

（二）社会经济意义

目前世界范围内，该项目产品的技术、生产主要由2家公司

控制（Ulcoat和CleanSurface）。他们是大陆Cr掩膜版生

产企业（美精微、清溢、信利）以及、、东南亚和、欧

洲等厂家的唯一供应，其生产周期长（1.5—2个月左右）并价

格昂贵（USD500USD1200/片）。

本项目投产后，不仅能打破上述技术