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18.半导体表面与界面效应
18.1表面态与界面态
表面态
半导体表面态是指在半导体表面或界面处形成的能量态,这些态通常位于禁带中。表面态的形成主要是由于表面原子的配位不完整和表面缺陷导致的。表面态对半导体器件的性能有着重要影响,比如表面态可以捕获或释放载流子,从而影响半导体的电学特性。
表面态的形成机制
配位不完整:在半导体表面,由于表面原子的配位数减少,导致这些原子的价带电子无法完全形成共价键,从而在禁带中形成表面态。
表面缺陷:表面缺陷如悬键、杂质原子、晶格畸变等也会在禁带中形成表面态。
表面重构:表面Reconstruction通过改变表面原子的排列,可以部分消除表面态,但通常仍会有部分表面态存在。
表面态的能级位置
表面态的能级位置:表面态的能级位置通常位于禁带中,但具体位置取决于表面的性质和缺陷类型。表面态的能级位置可以通过实验方法如扫描隧道显微镜(STM)和光电子能谱(XPS)来确定。
表面态的影响
载流子寿命:表面态可以捕获载流子,从而缩短载流子的寿命。
表面电导:表面态可以形成表面电导层,影响半导体的表面电学特性。
表面势垒:表面态可以形成表面势垒,影响载流子的迁移率和表面的电势分布。
界面态
界面态是指在两种不同材料界面处形成的能量态。在半导体器件中,界面态通常出现在半导体与绝缘层、金属层或另一半导体材料的界面上。界面态对器件的性能也有着重要影响,比如界面态可以导致器件的漏电流增加,影响器件的可靠性和稳定性。
界面态的形成机制
化学键不连续:在两种材料的界面处,化学键的不连续会导致界面态的形成。
晶格不匹配:不同材料的晶格常数不匹配也会在界面处产生界面态。
界面缺陷:界面处的缺陷如杂质原子、晶格畸变等也会形成界面态。
界面态的能级位置
界面态的能级位置:界面态的能级位置通常位于禁带中,但具体位置取决于界面的性质和缺陷类型。界面态的能级位置也可以通过实验方法来确定。
界面态的影响
载流子捕获与释放:界面态可以捕获或释放载流子,影响器件的电流-电压特性。
界面电导:界面态可以形成界面电导层,影响器件的电学性能。
界面势垒:界面态可以形成界面势垒,影响载流子的迁移率和界面的电势分布。
18.2表面与界面态的测量方法
扫描隧道显微镜(STM)
扫描隧道显微镜(STM)是一种可以探测半导体表面态的高分辨率显微镜。STM通过在样品和探针之间施加电压,产生隧道电流,从而实现对表面态的探测。
STM的工作原理
隧道效应:当探针和样品之间的距离非常接近时(通常为几纳米),电子可以通过隧道效应从样品跃迁到探针。
恒流模式:在恒流模式下,通过保持隧道电流恒定,可以调节探针的高度,从而获得表面的形貌信息。
恒高模式:在恒高模式下,通过测量隧道电流的变化,可以获得表面的电势分布信息。
STM的应用
表面形貌成像:STM可以用于高分辨率的表面形貌成像。
表面态成像:STM可以用于探测和成像表面态的分布。
表面电势测量:STM可以用于测量表面的电势分布。
光电子能谱(XPS)
光电子能谱(XPS)是一种可以测量半导体表面态和界面态的实验技术。XPS通过测量光电子的能量分布,来确定表面和界面处的能量态。
XPS的工作原理
光电效应:当光子照射到样品表面时,可以激发表面电子,使其脱离样品。
能量分析:通过分析这些光电子的能量分布,可以确定表面和界面处的能量态。
XPS的应用
表面化学成分分析:XPS可以用于分析表面的化学成分。
表面态能级测量:XPS可以用于测量表面态的能级位置。
界面态能级测量:XPS可以用于测量界面态的能级位置。
其他测量方法
电子顺磁共振(EPR):EPR可以用于探测半导体中的未成对电子,从而间接测量表面态和界面态。
原子力显微镜(AFM):AFM可以用于测量表面的形貌和机械特性,但通常不直接用于测量表面态和界面态。
低能电子衍射(LEED):LEED可以用于测量表面的晶体结构,从而间接推断表面态和界面态的存在。
18.3表面与界面态的理论模型
表面态的理论模型
简化的表面态模型
无限深势阱模型:假设表面处的势垒为无限深,可以简化表面态的计算。
有限深势阱模型:假设表面处的势垒为有限深,更接近实际情况,但计算复杂度增加。
表面态的计算方法
第一性原理计算:使用密度泛函理论(DFT)等方法,从原子尺度上计算表面态的能级位置和密度。
紧束缚模型:通过假设原子轨道的线性组合,计算表面态的能级位置。
界面态的理论模型
简化的界面态模型
一维势阱模型:假设界面处的势垒为一维势阱,可以简化界面态的计算。
二维势阱模型:假设界面处的势垒为二维势阱,更接近实际情况,但计算复杂度增加。
界面态的计算方法
第一性原理计算:使用密度泛函理论(DFT)等方法,从
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