拓荆科技首次覆盖报告：深耕先进沉积工艺，延展混合键合版图.pdfVIP

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目录

1.拓荆科技：薄膜沉积设备核心厂商，聚焦先进制程4

1.1深耕前道沉积，子公司多元布局4

1.2薄膜沉积为基，延伸三维集成键合平台5

1.3平台化延展，新产品量产驱动业绩抬升6

2.PECVD为当下薄膜沉积价值量核心，公司率先实现量产导入9

2.1薄膜沉积设备：在晶圆表面形成关键功能层9

2.2沉积工艺内部差异大，PECVD是价值量首位11

2.3公司PECVD设备已规模化量产并导入主流晶圆产线，卡位优势突出12

3.混合键合设备打开公司第二增长曲线14

3.1制程逼近极限，系统性能向集成要增量14

3.2价值量随集成层级上移，混合键合为关键受益方向15

3.3公司三维集成布局清晰，键合设备放量在即16

4.盈利预测与估值分析17

4.1盈利预测17

4.2估值分析18

5.风险提示19

请仔细阅读在本报告尾部的重要法律声明2

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图表目录

图表1：拓荆科技发展历程4

图表：拓荆科技前十大股东持股情况（截至年月日）

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图表3：拓荆科技子公司布局5

图表4：拓荆科技产品一览5

图表5：拓荆科技产品布局及进展概览6

图表6：2018-2021年1-9月公司分产品毛利率及收入占比情况6

图表7：拓荆科技2