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CVD设备背板精密研磨液.doc

CVD设备背板精密研磨液.doc

    配方CVD设备背板精密研磨液

    原料配比

    原料

    配比（质量份）

    1#

    2#

    电子级胶体二氧化硅

    平均粒径为120μm

    20

    —

    平均粒径为160μm

    —

    20

    有机酸

    酒石酸

    1

    —

    顺丁烯二酸

    —

    1.5

    金属氧化物

    过氧化氢

    3

    5

    缓蚀剂

    改性咪唑啉衍生物

    0.1

    —

    苯并三氮唑,

    —

    0.1

    四硼酸钠

    —

    0.1

    PH缓冲剂（调节PH至）

    三乙醇胺

    4.2

    —

    氨水

    —

    4.5

    制备方法将胶体二氧化硅混合于去离子水中充分搅拌，分别添加有机酸，金属氧化物，缓蚀剂，充分进行混合后，再加入PH缓冲剂，将研磨液PH调节至4～4.5之间，配置成研磨液。

    原料配伍

    所述的有机酸可以是

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