原创力文档用于化学机械研磨的抛光液
原料配比
原料
配比（质量份）
1#
2#
3#
4#
5#
6#
7#
8#
9#
研磨颗粒
SiO2（30nm）
0.1
－
－
－
－
－
－
－
－
SiO2（200nm）
－
6
－
－
－
－
－
－
－
Al2O3（120nm）
－
－
10
－
－
－
－
－
－
Al2O3（150nm）
－
－
－
10
－
－
－
－
－
ZrO2（100nm）
－
－
－
－
5
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－
－
－
ZrO2（90nm）
－
－
－
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－
－
10
－
－
CeO2（100nm）
－
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－
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4
－
－
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SiC（100nm）
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