用于大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光的抛光液.doc

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用于大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光的抛光液

原料配比

原料

配比(质量份)

1#

2#

3#

4#

5#

6#

7#

磨料

18

10

15

20

6

10

7

氧化剂

25

30

23

10

30

28

15

稳定剂

3

3

5

3

2

1.4

3.5

分散剂

1

1

1

10

8

3

8

催化剂

2.5

4.5

3.5

5

20

2.7

4

去离子水

50.5

51.5

52.5

52

34

54.9

62.5

制备方法

(1)将磨料加入到去离子水中,超声波搅拌10~30分钟,使得磨料在去离子水中充分分散,配制成悬浮液;

(2)在悬浮液中加入氧化剂和催化剂,进行加热的同时超声波搅

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