CN119601467A 玻璃通孔的制作方法 （成都迈科科技有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119601467A(43)申请公布日2025.03.11

(21)申请号202411687195.1

(22)申请日2024.11.25

(71)申请人成都迈科科技有限公司

地址611731四川省成都市高新区西芯大

道4号创新中心D136号

(72)发明人张继华蔡星周李山

张柏川方针高莉彬刘金旭

傅觉锋陈宏伟

(74)专利代理机构成都方圆聿联专利代理事务

所(普通合伙)51241专利代理师李鹏

(51)Int.CI.

H01L21/48(2006.01)

CO3C15/00(2006.01)

权利要求书1页说明书8页附图1页

(54)发明名称

玻璃通孔的制作方法

(57)摘要

CN119601467A本发明实施例提供一种玻璃通孔的制作方法用以解决现有玻璃通孔的制作方法存在无法按照预先设计的方案制成超高深径比的玻璃通孔的技术问题。该玻璃通孔的制作方法在激光诱导改性前，通过采用微米级光刻胶掩模技术，在玻璃基板的正反两面形成暴露的预制通孔图形化区域，同时在预制通孔图形化区域以外的玻璃基板表面形成厚度不小于5μm的光刻胶层。在激光诱导改性阶段可以使用更高照射功率的激光对预制通孔图形化区域内的玻璃材料进行深度改性，形成预制通孔改性区域。在化学刻蚀阶段，由于预制通孔改性区域以外的玻璃基板表面覆盖有抗腐蚀的光刻胶层，刻蚀液仅作用于预制通

CN119601467A

先使用由去离子水、酒精和丙酮组成的混合清洗溶液对玻

先使用由去离子水、酒精和丙酮组成的混合清洗溶液对玻

璃基板进行超声波清洗，再对清洗后的所述玻璃基板进行

干燥处理；

利用光刻胶掩模技术对所迷玻璃基板进行掩模处理，在所

迷玻璃基板的正反两面形成暴露的预制通孔图形化区域和

被厚度不小于5μm的光刻胶层覆盖的保护区域；

使用飞秒激光器，以设备照射功率的80～100%的激光照射

功率，对所述玻璃基板正、背面的所述预制通孔图化形区

城进行激光诱导改性，形成预制通孔改性区域；

将激光诱导改性后的所述玻璃基板放入超声波设备的清洗

槽中清洗，去除因激光诱导改性而产生的杂质，并在清洗

完成后进行烘干；

将烘干后的所述玻璃基板放入超声波刻蚀设备的刻蚀槽中进行刻蚀处理，直至在所述玻璃基板上形成玻璃通孔；

将刻蚀后的所述玻璃基板上的光刻胶层去除，并进行超声

波清洗。

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CN119601467A权利要求书1/1页

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1.玻璃通孔的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

先使用由去离子水、酒精和丙酮组成的混合清洗溶液对玻璃基板进行超声波清洗，再对清洗后的所述玻璃基板进行干燥处理；

利用光刻胶掩模技术对所述玻璃基板进行掩模处理，在所述玻璃基板的正反两面形成暴露的预制通孔图形化区域和被厚度不小于5μm的光刻胶层覆盖的保护区域；

使用飞秒激光器，以设备照射功率的80～100%的激光照射功率，对所述玻璃基板正、背面的所述预制通孔图化形区域进行激光诱导改性，形成预制通孔改性区域；

将激光诱导改性后的所述玻璃基板放入超声波设备的清洗槽中清洗，去除因激光诱导改性而产生的杂质，并在清洗完成后进行烘干；

将烘干后的所述玻璃基板放入超声波刻蚀设备的刻蚀槽中进行刻蚀处理，直至在所述玻璃基板上形成玻璃通孔；

将刻蚀后的所述玻璃基板上的光刻胶层去除，并进行超声波清洗。

2.根据权利要求1所述的玻璃通孔的制作方法，其特征在于，在利用光刻胶掩模技术对所述玻璃基板进行掩模处理的步骤中形成的所述光刻胶层的厚度为10～15μm。

3.根据权利要求1所述的玻璃通孔的制作方法，其特征在于，在利用光刻胶掩模技术对所述玻璃基板进行掩模处理的步骤中使用的光刻胶为正性光刻胶。

4.根据权利要求3所述的玻璃通孔的制作方法，其特征在于，所述正性光刻胶的成分质量比为：二氮萘醌17%、酚醛树脂63%、乙二醇单甲醚醋酸酯18%,余量为流平剂、增塑剂和表面活性剂。

5.根据权利要求1-4任一项所述的玻璃通孔的制作方法，其特征在于，在使用飞秒激光器，以设备照射功率的80～100%的激光照射功率，对所述玻璃基板正、背面的所述预制通孔图化形区域进行激光诱导改性的步骤中所述飞秒激光器的工作参数为：

激光脉冲数为2,加工类型为穿孔，激光焦距为3.6～3.9mm,激光照射功率为设备功率的80～100%,扫描速度为20m