CN119653636A 一种pcb板外层图形制作干膜掩孔的方法 (珠海杰赛科技有限公司).docxVIP

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  • 2026-01-28 发布于重庆
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CN119653636A 一种pcb板外层图形制作干膜掩孔的方法 (珠海杰赛科技有限公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119653636A

(43)申请公布日2025.03.18

(21)申请号202411688414.8

(22)申请日2024.11.25

(71)申请人珠海杰赛科技有限公司

地址519170广东省珠海市斗门区乾务镇

富山工业园富山三路1号

申请人广州杰赛电子科技有限公司

中电科普天科技股份有限公司

(72)发明人吴科建赵锋张良昌苏培涛李超谋

(74)专利代理机构广州三环专利商标代理有限公司44202

专利代理师温镜满

(51)Int.CI.

HO5K3/40(2006.01)

权利要求书2页说明书6页附图2页

(54)发明名称

一种PCB板外层图形制作干膜掩孔的方法

(57)摘要

CN119653636A本发明公开一种PCB板外层图形制作干膜掩孔的方法,印刷线路板技术领域。该PCB板外层图形制作干膜掩孔的方法,包括以下步骤:步骤一:内层图形制作:形成初级PCB板;步骤二:外层图形制作:将上述初级PCB进行前期处理,处理后进行干膜压合,曝光;在干膜掩孔上进行湿膜掩孔,然后湿膜干燥,再进行曝光显像,形成中级PCB板;步骤三:固化与检查:将上述PCB板进行固化;步骤四:对掩孔的PCB进行阻焊-表涂-测试,形成终极完整PCB产品。该PCB板外层图形制作干膜掩孔的方法,通过掩孔处干膜外覆盖湿膜,可以降低干膜在显影蚀刻时药水冲击导致干膜破碎的

CN119653636A

内层图形制作:基板开料,制作内层图形,

内层图形制作:基板开料,制作内层图形,

棕化后与PP、铜箔组合层压,然后进行钻

孔、沉铜电镀,形成初级PCB板

外层图形制作:将上述初级PCB进行前期处

理,处理后进行干膜压合,曝光;在干膜掩

孔上进行湿膜掩孔,然后湿膜干燥,再进行

曝光显像,形成中级PCB板

固化与检查:使用柔气灯的固化设备将上述

PCB板进行固化,通过控制柔气灯的密度和

传送带的速度来获得所需的热量水平,并进

行质量检查

对掩孔的PCB进行阻焊-表涂-测试,形成终极完整PCB产品

CN119653636A权利要求书1/2页

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1.一种PCB板外层图形制作干膜掩孔的方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤一:内层图形制作:基板开料,制作内层图形棕化后与PP、铜箔组合层压,然后进行钻孔、沉铜电镀,形成初级PCB板;

步骤二:外层图形制作:将上述初级PCB进行前期处理,处理后进行干膜压合,曝光;在干膜掩孔上进行湿膜掩孔,然后湿膜干燥,再进行曝光显像,形成中级PCB板;

步骤三:固化与检查:使用柔气灯的固化设备将上述PCB板进行固化,通过控制柔气灯的密度和传送带的速度来获得所需的热量水平,并进行质量检查;

步骤四:对掩孔的PCB进行阻焊-表涂-测试,形成终极完整PCB产品。

2.根据权利要求1所述的一种PCB板外层图形制作干膜掩孔的方法,其特征在于,所述步骤二中干膜压合则为贴干膜,其中所述干膜厚度为10-40μm。

3.根据权利要求1所述的一种PCB板外层图形制作干膜掩孔的方法,其特征在于,所述步骤二中湿膜掩孔通过丝印方式加工,其中所述湿膜厚度为20-50μm。

4.根据权利要求1所述的一种PCB板外层图形制作干膜掩孔的方法,其特征在于,所述步骤二中初级PCB进行前期处理包括:

氧化处理:用褐色氧化物和黑色氧化物对铜层进行受控氧化,氧化处理过程必须严密控制以使氧化层厚度保持为0.5~1.0μm。

5.根据权利要求1所述的一种PCB板外层图形制作干膜掩孔的方法,其特征在于,所述步骤二中干膜压合包括:

去水汽:使用高压吹风机将水从电路板的表面和孔洞中予以物理清除;

压合:将干膜覆盖在初级PCB板上,并使干膜与PVB板紧密贴合。

6.根据权利要求1所述的一种PCB板外层图形制作干膜掩孔的方法,其特征在于,所述步骤二中湿膜掩孔包括:

材料准备:确保所需的浆料、网版、刮刀、清洗剂、电路板都已经准备好;

网版丝印:制作一个与电路板孔洞布局相匹配的网版,将浆料倒在网版上,然后使用刮刀将浆料均匀刮过网版,使浆料通过网版的开口进入电路板的孔洞,并附着在干膜上,浆料在孔洞中,其表面与电路板表面齐平或稍微高出孔口。

7.根据权利要求1所述的一种PCB板外层图形制作干膜掩孔的方法,其特征在于,所述步骤二中湿膜干燥通过加热箱进行干燥,所述加热箱的温度控制在

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