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- 2026-01-28 发布于重庆
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(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN119644499A(43)申请公布日2025.03.18
(21)申请号202411758725.7
(22)申请日2024.12.03
(71)申请人长飞光纤光缆股份有限公司
地址430074湖北省武汉市东湖高新技术
开发区光谷大道九号
(72)发明人李羽高皓柯明鑫陈杰胡庆杨坤杨晨汪松吴琴
(74)专利代理机构武汉华之喻知识产权代理有限公司42267
专利代理师彭翠
(51)Int.CI.
GO2B6/02(2006.01)
CO3B37/02(2006.01)
C03C25/54(2006.01)
权利要求书1页说明书10页附图2页
(54)发明名称
一种金属涂覆层抗辐照光纤及其制作方法
(57)摘要
CN119644499A本发明属于光纤涂层材料技术领域,更具体地,涉及一种金属涂覆层抗辐照光纤及其制作方法。本发明提出的抗辐照光纤,在裸光纤外设置有双涂层,其中内涂层为有机物膜层,外涂层为金属膜层。通过对光纤涂层结构和材料组成进行重新设计,克服现有抗辐射光纤抗辐射性能、耐温性能、抗弯性能不佳或不能兼顾的问题,以及现有技术耐高温抗辐射光纤制备工艺无法连续
CN119644499A
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CN119644499A权利要求书1/1页
2
1.一种金属涂覆层抗辐照光纤,其特征在于,自内向外依次设置有纤芯、包层、内涂层和外涂层,所述内涂层为有机物膜层,所述外涂层为金属膜层;
其中,所述有机物膜层材料为丙烯酸树脂类聚合物;所述金属膜层为既包含重金属元素、还包括低熔点金属的合金材料膜层,且所述合金材料的熔点小于或等于220℃。
2.如权利要求1所述的金属涂覆层抗辐照光纤,其特征在于,所述内涂层为丙烯酸树脂、含硅或含氟的改性丙烯酸树脂中的一种或多种。
3.如权利要求1所述的金属涂覆层抗辐照光纤,其特征在于,所述合金材料的熔点小于或等于200℃。
4.如权利要求1所述的金属涂覆层抗辐照光纤,其特征在于,所述重金属元素为铅和/或镉,所述低熔点金属为锡、铟、铋中的一种或多种。
5.如权利要求1所述的金属涂覆层抗辐照光纤,其特征在于,所述重金属元素在所述合金材料膜层中的含量为20wt%~60wt%。
6.如权利要求1所述的金属涂覆层抗辐照光纤,其特征在于,所述包层的直径为124~
126μm,所述内涂层的直径为170~210μm,所述外涂层的直径为200~300μm,且所述外涂层的厚度大于或等于20μm。
7.如权利要求1至6任一项所述的金属涂覆层抗辐照光纤的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1:拉制出包含所述纤芯和包层的裸光纤;
S2:将所述裸光纤冷却后依次进行树脂材料熔融涂覆以及紫外固化,得到形成所述内涂层的光纤;
S3:将形成所述内涂层的光纤依次进行合金材料熔融涂覆以及冷却,在所述内涂层表面形成所述外涂层,得到所述金属涂覆层抗辐照光纤。
8.根据权利要求7所述的制作方法,其特征在于,步骤S3将形成所述内涂层的光纤进行合金材料熔融涂覆,所述熔融涂覆的温度为70℃~200℃,并且所述熔融涂覆的温度高于所述合金材料的熔点3~15℃。
9.如权利要求8所述的制作方法,其特征在于,步骤S3所述合金材料熔融涂覆时合金材料溶液的高度h与光纤的拉丝速度v之比h/v5ms。
10.如权利要求8所述的制作方法,其特征在于,步骤S3所述金属材料熔融涂覆时合金材料溶液的高度h与光纤的拉丝速度v之比2.5ms≤h/v≤4.5ms。
CN119644499A说明书1/10页
3
一种金属涂覆层抗辐照光纤及其制作方法
技术领域
[0001]本发明属于光纤涂层材料技术领域,更具体地,涉及一种金属涂覆层抗辐照光纤及其制作方法。
背景技术
[0002]光纤由于具有损耗低、传输速率高、体积小、质量轻、抗静电干扰等优点,在诸如海洋、核电站、环境智能监测等特殊辐照环境下,被广泛用作光传输介质。然而,在这些辐照环境中,光纤通信传感能力、光纤可靠性往往会急速下降,究其原因,主要是电离辐射和环境高温导致石英光纤材
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