CN113087952A 一种全息膜材料及其制作方法 （苏州苏大维格科技集团股份有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN113087952A

(43)申请公布日2021.07.09

(21)申请号201911323056.X

(22)申请日2019.12.20

C08L69/00(2006.01)

(71)申请人苏州苏大维格科技集团股份有限公

司

地址215123江苏省苏州市工业园区新昌

路68号

(72)发明人朱昊枢叶瑞左志成刘晓宁刘朋任家安王建强魏国军孙菁陈林森朱志坚

(74)专利代理机构苏州简理知识产权代理有限公司32371

代理人杨晓东

(51)Int.CI.

C08J7/046(2020.01)

C08J7/04(2020.01)

权利要求书2页说明书9页附图3页

(54)发明名称

一种全息膜材料及其制作方法

(57)摘要

CN113087952A本发明公开了一种全息膜材料及其制作方法，其特征在于：所述全息膜材料为设置在基层上的复合表层，其中所述全息膜材料包括：全息层，所述全息层靠近基层一侧的表面材质与所述基层材质相同，所述全息层远离所述基层一侧的表面上形成有全息防伪微纳结构；全息膜材料设置有形成于所述全息层上并覆盖所述全息防伪微纳结构的透明介质层；全息层之上的透明介质层上还设置有保护层，所述保护层由UV光固化涂料涂层和/或热固性涂料涂层固化而成，本发明

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CN113087952A权利要求书1/2页

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1.一种全息膜材料，其特征在于：所述全息膜材料为设置在基层上的复合表层，其中所述全息膜材料包括：全息层，所述全息层靠近基层一侧的表面材质与所述基层材质相同，所述全息层远离所述基层一侧的表面上形成有全息防伪微纳结构；

全息膜材料设置有形成于所述全息层上并覆盖所述全息防伪微纳结构的透明介质层；全息层之上的透明介质层上还设置有保护层，所述保护层由UV光固化涂料涂层和/或热固性涂料涂层固化而成。

2.如权利要求1所述的全息膜材料，其特征在于：所述全息膜材料的保护层包括低聚物、稀释剂、光引发剂、偶联剂。

3.如权利要求2所述的全息膜材料，其特征在于：所述全息膜材料的保护层的低聚物为脲改性多异氰酸酯或氟改性丙烯酸酯，所述稀释剂为TMPTA、HDDA、TPGDA、IBOA或2-EHA,所述光引发剂为651光引发剂、1173光引发剂或184光引发剂，所述偶联剂为硅烷偶联剂或钛酸酯偶联剂。

4.如权利要求1所述的全息膜材料，其特征在于；所述全息膜材料的透明介质层与保护层之间还设置有黏结层，所述黏结层形成于所述透明介质层上，所述保护层形成于所述黏结层上。

5.如权利要求1所述的全息膜材料，其特征在于：

所述全息层为PC薄膜层，所述全息层远离所述基层一侧的表面上直接压印有所述全息防伪微纳结构；

或者所述全息层为PC薄膜层，且远离所述基层一侧的表面涂有热固性涂料涂层，在热固性涂料涂层上压印形成所述全息防伪微纳结构；

或者所述全息层为PC薄膜层，且远离所述基层一侧的表面涂有UV光固化涂料涂层，在UV光固化涂料涂层上压印形成所述全息防伪微纳结构。

6.如权利要求1至4任一权利要求所述的全息膜材料，其特征在于：所述保护层远离所述基层的表面上压印形成有微透镜阵列，所述微透镜阵列由同尺寸/不同尺寸的透镜阵列规则/随机排列；所述透明介质层为二氧化钛或五氧化二铌或二氧化锆层，或者由折射率大于1.8的陶瓷材料构成。

7.如权利要求4所述的全息膜材料，其特征在于：所述黏结层是由偶联剂固化而成，所述黏结层的厚度在0.1-15微米之间。

8.如权利要求2所述的全息膜材料，其特征在于：所述偶联剂为改性硅氧烷和改性丙烯酸酯，所述黏结层的厚度在0.1-10微米之间。

9.如权利要求1所述的全息膜材料，其特征在于：所述全息层的厚度在100-130微米之间；所述全息膜材料透明介质层的厚度在10-100纳米之间；所述全息膜材料保护层为UV胶经光固化而成，厚度在1-30微米之间。

10.如权利要求1所述的全息膜材料，其特征在于：所述全息膜材料的透明介质层的厚度在10-200纳米之间，折射率大于1.8;所述全息膜材料的保护层为UV胶经光固化而成，厚度在0.5-50微米之间。

11.一种全息膜材料的制作方法，其特征在于：

提供全息层，其中全息层的一表面上涂布有涂层，然后在涂层上