CN110133761A 一种超材料反射膜及其制作方法 （湖南理工学院）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(43)申请公

(10)申请公布号CN110133761A布日2019.08.16

(21)申请号201910420627.5

(22)申请日2019.05.20

(71)申请人湖南理工学院

地址414000湖南省岳阳市学院路

(72)发明人闵力谢雅芳李广威彭星王燕王湘迪谢文婷

(74)专利代理机构北京众达德权知识产权代理有限公司11570

代理人刘杰

(51)Int.CI.

G02B1/00(2006.01)

G02B5/08(2006.01)

权利要求书1页说明书4页附图3页

(54)发明名称

一种超材料反射膜及其制作方法

(57)摘要

CN110133761A本发明公开了一种超材料反射膜及其制作方法。通过包括周期性分布的“圆对称结构和/或球对称结构”的共振单元的超材料层，使入射电磁波垂直入射到超材料时，能够对不同偏振态电

CN110133761A

CN110133761A权利要求书1/1页

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1.一种超材料反射膜，其特征在于，包括：衬底及超材料层；所述超材料层包括多个共振单元，所述多个共振单元周期性分布在所述衬底上；每个所述共振单元均为圆对称结构和/或球对称结构。

2.如权利要求1所述的超材料反射膜，其特征在于，相邻的所述共振单元在所述衬底上的间距是相等的。

3.如权利要求1所述的超材料反射膜，其特征在于，所述每个共振单元的形状为圆环形和/或圆柱形。

4.如权利要求1所述的超材料反射膜，其特征在于，所述超材料层的构成成分是等离子物质。

5.如权利要求4所述的超材料反射膜，其特征在于，所述超材料层的构成成分是金属和/或具有等离子性质的半导体。

6.如权利要求1-5中任一项所述的超材料反射膜，其特征在于，所述衬底的材料是本征半导体材料或介质材料。

7.一种超材料反射膜的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

在所述衬底上涂覆光刻胶；

将预先设置的掩模板放置在所述光刻胶上；

对放置有掩模板的光刻胶进行曝光以及显影，得到图形化的光刻胶层；

将所述掩模板移除；

在所述衬底的设置有所述图形化的光刻胶层的表面制备等离子体膜；

将所述光刻胶层剥离，制备出所述超材料反射膜的超材料层，其中，所述超材料层包括多个共振单元，所述多个共振单元周期性分布在所述衬底上；每个所述共振单元均为圆对称结构和/或球对称结构。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述等离子体膜为金属膜。

9.如权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述衬底的设置有所述图形化的光刻胶层的表面制备等离子体膜之前，还包括：

对所述衬底和所述等离子体膜材料进行预处理。

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述对所述衬底和所述等离子体膜材料进行预处理，包括：

对所述衬底进行加热；

对所述等离子体膜材料进行预热。

CN110133761A说明书1/4页

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一种超材料反射膜及其制作方法

技术领域

[0001]本发明涉及光学技术领域，尤其涉及一种超材料反射膜及其制作方法。

背景技术

[0002]随着社会的发展以及人们生活水平的提高，光电子器件正逐渐向小型化、多功能、集成化的方向发展。目前，紫外反射镜在紫外光刻、天文观测、等离子体诊断等领域得到了广泛的应用。目前，传统的反射膜存在偏振敏感的问题，极大地制约了其的应用

发明内容

[0003]本发明通过提供一种超材料反射膜及其制作方法，解决了现有技术中反射膜偏振敏感的技术问题。

[0004]本发明提供了一种超材料反射膜，包括：衬底及超材料层；所述超材料层包括多个共振单元，所述多个共振单元周期性分布在所述衬底上；每个所述共振单元均为圆对称结构和/或球对称结构。

[0005]进一步地，相邻的所述共振单元在所述衬底上的间距是相等的。

[0006]进一步地，所述每个共振单元的形状为圆环形和/或圆柱形。

[0007]进一步地，所述超材料层的构成成分是等离子物质。

[0008]进一步地，所述超材料层的构成成分是金属和/或具有等离子性质的半导体。

[0009]