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- 约 14页
- 2026-02-14 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN110067318A
(43)申请公布日2019.07.30
(21)申请号201811159494.2
(22)申请日2018.09.30
(71)申请人内蒙古电力勘测设计院有限责任公司
地址010011内蒙古自治区呼和浩特市赛
罕区鄂尔多斯东街巨海城八区5号、6
号写字楼
(72)发明人吴璇刘杰
(51)Int.CI.
E04B2/00(2006.01)
E04B1/84(2006.01)
权利要求书2页说明书4页附图1页
(54)发明名称
一种集成设备箱体的消音墙结构及其制作方法
(57)摘要
CN110067318A本发明公开了一种集成设备箱体的消音墙结构,其包括房间的实体墙、镶嵌件、设备箱以及吸音层;在实体墙上开设有与镶嵌件相匹配的孔洞,镶嵌件置于孔洞内,并与实体墙固定连接。本发明还公开了一种集成设备箱体的消音墙结构的制作方法,其包括如下步骤:(a)预制镶嵌件;(b)开设孔洞;(c)固定镶嵌件;(d)、固定设备箱;(e)铺设吸音层。本发明可使房间内侧的吸音层、镶嵌件、设备箱的箱门齐平,增加房间内墙的美观度;增大设备箱背部镶嵌件的厚度,提高消声降噪效果;在吸音层表面和设备箱的箱门外侧面
CN110067318A
CN110067318A权利要求书1/2页
2
1.一种集成设备箱体的消音墙结构,其特征在于,其包括房间的实体墙、镶嵌件、设备箱以及吸音层;
在所述实体墙上开设有与所述镶嵌件相匹配的孔洞,所述镶嵌件置于所述孔洞内,并与所述实体墙固定连接;
在所述镶嵌件靠近房间内的一侧设有与所述设备箱相匹配的容纳腔,所述设备箱置于所述容纳腔内,并与所述镶嵌件固定连接,且所述容纳腔的深度与所述设备箱的深度相等;
在房间内侧的所述实体墙上固定设有所述吸音层,且房间内侧的所述吸音层、所述镶嵌件、所述设备箱的箱门齐平。
2.根据权利要求1所述的一种集成设备箱体的消音墙结构,其特征在于,其还包括固定于房间内侧所述实体墙上的龙骨框架,所述吸音层镶嵌于所述龙骨框架内。
3.根据权利要求1所述的一种集成设备箱体的消音墙结构,其特征在于,其还包括吸音饰面,在房间内侧的所述吸音层上和所述设备箱的箱门外侧面上均固定设有所述吸音饰面。
4.根据权利要求1所述的一种集成设备箱体的消音墙结构,其特征在于,所述容纳腔的壁厚d≥100mm。
5.根据权利要求1所述的一种集成设备箱体的消音墙结构,其特征在于,所述吸音层为吸音陷阱。
6.一种集成设备箱体的消音墙结构的制作方法,其特征在于,其包括如下步骤:(a)预制镶嵌件;(b)开设孔洞;(c)固定镶嵌件;
(d)固定设备箱;(e)铺设吸音层;其中:
(a)预制镶嵌件:浇注镶嵌件,并在所述镶嵌件上预设与设备箱相匹配的容纳腔,使所述镶嵌件的厚度与实体墙和吸音层的厚度之和相等;
(b)开设孔洞:在所述实体墙上开设与所述镶嵌件相匹配的孔洞;
(c)固定镶嵌件:将所述镶嵌件置于所述孔洞内,开设有所述容纳腔一侧朝向房间内侧设置,并将所述镶嵌件固定于所述实体墙上;
(d)固定设备箱:将所述设备箱置于所述容纳腔内,所述设备箱的箱门置于房间内侧,并将所述设备箱固定于所述镶嵌件上;
(e)铺设吸音层:在所述实体墙的内侧固定设置所述吸音层,并使房间内侧的所述吸音层、所述镶嵌件、所述设备箱的箱门齐平。
7.根据权利要求6所述的一种集成设备箱体的消音墙结构的制作方法,其特征在于,在步骤(d)固定设备箱与步骤(e)铺设吸音层之间还包括步骤(f)固定龙骨框架:在房间内侧的所述实体墙上固定龙骨框架;所述步骤(e)铺设吸音层中,所述吸音层镶嵌于所述龙骨框架内。
8.根据权利要求7所述的一种集成设备箱体的消音墙结构的制作方法,其特征在于,其还包括步骤(g)铺设吸音饰面:在房间内侧的所述吸音层和所述设备箱的箱门外侧面上均固定铺设吸音饰面。
9.根据权利要求6所述的一种集成设备箱体的消音墙结构,其特征在于,所述容纳腔的壁厚d≥100mm。
10.根据权利要求6所述的一种集成设备箱体的消音墙结构,其特征在于,所述吸音层
3
CN110067318A权利要求书2/2页
为吸音陷
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