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- 约 27页
- 2026-02-17 发布于重庆
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[19]中华人民共和国国家知识产权局[51]Int.Cl?
G02B6/124
[12]发明专利申请公开说明书
[21]申请号5
[43]公开日2004年9月8日[11]公开号CN1527076A
[22]申请日2003.9.22[21]申请5
[71]申请人吉林大学
地址130023吉林省长春市朝阳区解放大路119号
[72]发明人张大明崔占臣赵禹王菲马春生刘式墉
[74]专利代理机构长春吉大专利代理有限责任公司
代理人张景林张凯军
权利要求书2页说明书9页附图3页
[54]发明名称有机聚合物阵列波导光栅及其制作方法
[57]摘要
本发明属于有机聚合物阵列波导光栅及其制作方法:以单晶硅片为衬底(1),在硅片上涂覆聚合物下包层材料(2)后进行烘干,然后旋涂聚合物芯层材料(3);烘干后在芯层材料上蒸发或溅射铝膜(4),再在铝膜上涂覆光刻胶(5),用阵列波导光栅掩膜板(7)进行光刻;然后进行氧反应离子刻蚀(9);刻蚀后在聚合物芯层材料上得到阵列波导光栅的图形,再旋涂聚合物上包层材料(12),烘干后得到阵列波导光栅。本发明的器件及其制作方法不仅容易控制聚合物芯层(13)和包层材料((2)、
(12))的折射率差,而且容易控制每一层材料的厚度;可灵活选择包层和芯层材料,实现优化设计,器件成本低,成品率高,适合大批量生产。
知识产权出版社出版5权利要求书第1/2页
2
1、有机聚合物阵列波导光栅,依次由硅衬底(1)、下包层(2)、芯层(13)和上包层(12)组成,其特征在于:下包层(2)和上包层(12)以及芯层(13)均是有机聚合物材料,芯层(13)的折射率大于下包层(2)和上包层(12)。
2、如权利要求1所述的有机聚合物阵列波导光栅,其特征在于:用作包层(2)、(12)和芯层(13)的有机聚合物为含氟聚酯,其通式如(I)所示:
-[0-R?]m-[0-R?]n-[0-R?]-[0-R4]g-
(I)
式中,m、n、1、g均为整数,m:(n+1+g)=1:1,其中1,g≥0。R?、R?、R?、R?的含义如(II)、(II)、(IV)、(V)所示:
R1:
(II)(III)(IV)
(V)
在通式(I)中,芯层(13)的g值大于包层(2)、(12)的g值。
3、如权利要求1所述的有机聚合物阵列波导光栅,其特征在于:用作包层(2)、
(12)材料的有机聚合物为甲基丙烯酸甲酯与甲基丙烯酸环氧丙酯共聚物,其结构式如通式(VI)所示:
(VI)
在通式(VI)中加入高折射率调节材料-双酚A环氧树脂(VII)作为芯层(13)材料使用,控制材料(VII)的含量,使芯层材料的折射率在1.48-1.58之间。5权利要求书第2/2页
3
(VII)
4、有机聚合物阵列波导光栅的制备方法,其步骤为:以单晶硅片为衬底(1),在硅片上先用旋涂法涂覆聚合物下包层材料(2)后进行前烘,然后旋涂聚合物波导芯层材料(3);烘干后在芯层材料上蒸发或溅射一层金属铝膜(4),再在铝膜(4)上涂覆光刻胶(5),用阵列波导光栅掩膜板(7)进行光刻;然后进行氧反应离子刻蚀(9);刻蚀后在聚合物芯层材料上得到阵列波导光栅的图形,在得到的样品上旋涂聚合物上包层材料(12),烘干后得到阵列波导光栅(17)。
5、如权利要求4所述的有机聚合物阵列波导光栅的制备方法,其特征在于:旋涂下包层、芯层,是指将经过0.4微米及0.4微米以下的过滤器过滤的浓度为15-30%的聚合物材料滴在处理过的硅衬底(1)上,将硅衬底(1)置于旋转涂覆机上,在3000-4000转/分的转速下旋转衬底进行涂膜,旋
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