CN101846760A 一种纳米光栅的制作方法 (重庆理工大学).docxVIP

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CN101846760A 一种纳米光栅的制作方法 (重庆理工大学).docx

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN101846760A

(43)申请公布日2010.09.29

(21)申请号201010143946.5

(22)申请日2010.04.09

(71)申请人重庆理工大学

地址400054重庆市巴南区李家沱红光大道

69号

(72)发明人罗静王春欢张微詹捷

(74)专利代理机构重庆博凯知识产权代理有限公司50212

代理人李晓兵

(51)Int.CI.

GO2B5/18(2006.01)

G01Q60/10(2010.01)

权利要求书1页说明书3页附图1页

(54)发明名称

一种纳米光栅的制作方法

(57)摘要

CN101846760A本发明公开了纳米光栅的制作方法,在光学玻璃表面上镀一层导电薄膜,构成光栅基体,薄膜厚度范围为30nm~90nm;将光栅基体固定在纳米进给工作台上,用扫描隧道显微测量装置在受控状态下带动探针沿Y轴方向运动,扫描隧道显微测量装置的脉冲电压发生器产生脉冲电压,经执行器施加在探针上,对光栅基体进行刻线加工;当一条栅线的刻线加工完成后,光栅基体向X轴方向移动量为10nm~80nm,重复前述刻线加工过程,在光学玻璃表面上制得纳米光栅。本发明采用STM纳米加工技术及STM电子束光刻技术制作具有纳米级线宽的光栅,实现光栅的纳米测量;由于探针与抗蚀膜的距离只有几纳米,加上探针尖端的直径很小,只有一个至数个原子,所以曝光只需通过与一次电子束的相互作用就可产生,克服了二次电子与背散射电子相互作用引起的分辨

CN101846760A

CN101846760A权利要求书1/1页

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1.一种纳米光栅的制作方法,其特征是:在光学玻璃表面上镀一层导电薄膜,构成光栅基体,薄膜厚度范围为30nm~90nm;将光栅基体固定在纳米进给工作台上,用扫描隧道显微测量装置在受控状态下带动探针沿Y轴方向运动,扫描隧道显微测量装置的脉冲电压发生器产生脉冲电压,经执行器施加在探针上,对光栅基体进行刻线加工;当一条栅线的刻线加工完成后,纳米进给工作台带动光栅基体向X轴方向移动,移动位移量为10nm~80nm,移动到位后固定,重复前述刻线加工过程,在光学玻璃表面上制得纳米光栅。

2.根据权利要求1所述的纳米光栅的制作方法,其特征是:扫描隧道显微测量装置的压电陶瓷管与探针连接,压电陶瓷管在受控状态下沿Y轴方向运动,带动探针沿Y轴方向运动。

3.一种实现权利要求1所述制作方法的扫描隧道显微测量装置,包括基座(1),在基座

(1)上设置可移动的纳米进给工作台(2),光栅基体(15)设置在纳米进给工作台(2)上;其特征是:微进给机构(11)设置在基座(1)上,微进给机构(11)能在受控状态下移动,产生一定的位移;连接杆(10)连接在微进给机构(11)上,位于光栅基体(15)上方的探针(14)连接在连接杆(10)上,微进给机构(11)通过连接杆(10)驱动探针(14)向光栅基体(15)移动;

在探针(14)与光栅基体(15)之间,设置隧道偏压电路(3),信号采集系统(4)连接在隧道偏压电路(3)上,信号采集系统(4)经信号处理系统(5)与计算机(6)连接,采集到的隧道电流信号输送到信号处理系统(5)内进行处理、计算,输入到计算机(6)内;计算机(6)的输出端与微进给机构(11)的控制器连接,计算机(6)发出信号控制微进给机构(11),使探针(14)与光栅基体(15)之间的间隙d保持恒定;

脉冲电压发生器(7)与执行器(8)连接,经执行器(8)施加在探针(14)上进行刻线加工。

4.根据权利要求3所述的扫描隧道显微测量装置,其特征在于:脉冲电压发生器(7)、压电陶瓷驱动器(9)与计算机(6)的输出端连接,受计算机(6)输出的信号控制;压电陶瓷驱动器(9)与压电陶瓷管(13)连接,探针(14)与压电陶瓷管(13)连接,或设置在压电陶瓷管(13)上,计算机(6)控制压电陶瓷驱动器(9)控制压电陶瓷管(13)沿Y轴方向运动,带动探针(14)沿Y轴方向完成整条栅线的加工;当一条栅线的加工完成后,在计算机(6)的控制下,纳米进给工作台(2)向X轴方向移动。

CN101846760A

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