CN107473177B 一种3d立体微纳结构的制作方法 (华中科技大学).docxVIP

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CN107473177B 一种3d立体微纳结构的制作方法 (华中科技大学).docx

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

(45)授权

(10)授权公告号CN107473177B公告日2020.07.14

(21)申请号201710574943.9

(22)申请日2017.07.14

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN107473177A

(43)申请公布日2017.12.15

(73)专利权人华中科技大学

地址430074湖北省武汉市洪山区珞喻路

1037号

(72)发明人吴丰顺周政莫丽萍祝温泊章安娜

(74)专利代理机构华中科技大学专利中心

(56)对比文件

CN1871530A,2006.11.29,

CN103224218A,2013.07.31,

US2011/0284975A1,2011.11.24,CN105372934A,2016.03.02,

CN103863999A,2014.06.18,

CN103787267A,2014.05.14,

US9229162B1,2016.01.05,

WO2013/085561A1,2013.06.13,

审查员冷林霞

42201

代理人梁鹏曹葆青

(51)Int.CI.

B81C1/00(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图2页

(54)发明名称

一种3D立体微纳结构的制作方法

(57)摘要

CN107473177B本发明属于微纳制造工艺相关领域,并提供了一种3D微纳结构的制作方法,该方法包括:将被加工材料薄膜放置在模具上,模具根据根据材料的脱模性能决定是否涂覆脱模剂,在被加工材料薄膜上方放置用于发生自蔓延反应的自蔓延多层膜,向自蔓延多层膜自上至下的结构施加0.1MPa~20MPa的压力,点燃自蔓延多层膜,由此方式以点燃后的自蔓延多层膜作为热量与冲击力的来源,将所述模具上的图形转移到所述被加工材料薄膜上。按照本方法,不仅可有效避免微纳制造复杂的加工工序,具有方法灵活、成本低

CN107473177B

S1,根据所设计图案制备模具;

S1,根据所设计图案制备模具;

S2,在所述模具表面可选择地涂覆一层脱模剂,然后依次放置被加工材料薄膜、缓冲层、自蔓延多层膜、隔热材料膜和压板;

S3,向所述压板均匀施加一压力并引燃所述自蔓延多层膜,反应完成后脱模。

CN107473177B权利要求书1/1页

2

1.一种3D立体微纳结构的制作方法,其特征在于,所述3D立体微纳结构用于微机电系统,并且所述制作方法包括如下步骤:

S1,根据所设计图案制备模具;

S2,在所述模具表面涂覆一层脱模剂,然后依次设置被加工材料薄膜、缓冲层、自蔓延多层膜、隔热材料膜和压板;

S3,向所述压板均匀施加0.1MPa~20MPa的压力并引燃所述自蔓延多层膜,反应完成后执行脱膜,由此获得所需的3D立体微纳结构,其中该自蔓延多层膜选自Al-Ni膜、Ti-Al膜和Ti-Si膜中的一种或者组合,且厚度为40μm~80μm;在此过程中,完全避免了X射线或紫外线的使用,而是利用所述自蔓延多层膜来产生热能和热应力且同时发挥作用,其中被传递至所述被加工材料薄膜的热能不仅使得该薄膜不易脆化和发生断裂,而且使其发生软化;同时被传递至所述被加工材料薄膜的热应力会沿着竖直方向对该薄膜施加均匀的变形驱动力,并使其与所述模具之间实现接触及挤压变形,相应在微观层面上对被加工材料的表面形貌执行质量控制,进而获得所需的高分辨率产品。

2.如权利要求1所述的一种3D立体微纳结构的制作方法,其特征在于,所述S3步骤中施压时间为1s~20s。

3.如权利要求1所述的一种3D立体微纳结构的制作方法,其特征在于,所述隔热材料膜材料为绝热材料且耐800℃以上温度。

4.一种3D立体微纳结构的制作方法,其特征在于,所述3D立体微纳结构用于微机电系统,并且所述制作方法包括如下步骤:

将被加工材料薄膜放置在涂覆有脱模剂的模具上,在其上方放置用于发生自蔓延反应的自蔓延多层膜,其中该自蔓延多层膜选自A1-Ni膜、Ti-Al膜和Ti-Si膜中的一种或者组合,且厚度为40μm~80μm;

向所述自蔓延多层膜自上至下施加0.1MPa~20MPa的

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