（人教版必修第二册）高一化学下册同步讲义第07讲 无机非金属材料（学生版）.docxVIP

第07讲无机非金属材料

课程标准

课标解读

1．了解无机非金属材料的主要性能和用途。

2．了解常见硅酸盐产品的组成。

3．掌握硅酸钠的性质和用途。

4．掌握硅和二氧化硅的性质，了解硅和二氧化硅的用途。

1．能列举、描述、辨识无机非金属材料。

2．能从材料组成的角度对无机非金属材料进行分类，并合理使用。

3．能说明无机非金属材料的应用对社会发展的价值。

知识点01传统无机非金属材料——硅酸盐材料

1．无机非金属材料

（1）组成元素：多含有___、___等元素。

（2）分类：______无机非金属材料、______无机非金属材料。

（3）性能：具有耐______、抗______、硬度______等特点，以及特殊的光学、电学等性能。

（4）应用领域：日常生活应用、航空、航天、信息和新能源等领域。

2．传统无机非金属材料——硅酸盐材料

（1）硅酸盐及其结构

①概念：硅酸盐是由___、___和______等元素组成的化合物的总称。

②结构：Si和O构成了硅氧______，许多这样的四面体通过顶角的___相互连接。

③特性：硅酸盐材料大多具有硬度___、熔点___、___溶于水、化学性质___、耐___等特点。

（2）常见的硅酸盐材料

项目

陶瓷

玻璃

水泥

主要成分

成分复杂

_____、_____和_____

硅酸三钙（__________）、硅酸二钙（__________）、铝酸三钙（__________）

生产原料

_____

（含水的铝硅酸盐）

_____、_____、_____

主要原料：_____、_____

辅助原料：适量的_____

主要设备

_________

_________

_________

用途

建筑材料、绝缘材料、日用器皿、卫生洁具等

建筑材料、光学仪器、各种器皿、制造玻璃纤维

大量用于建筑和水利工程

【即学即练1】下列物质中，不含硅酸盐的是（）。

A．水玻璃B．硅芯片C．黏土D．普通水泥

知识点02高纯度含硅元素的材料——硅和二氧化硅

1．硅的存在、结构

存在

原子结构

示意图

周期表中位置

含量

存在形态

地壳中居第___位

_______和_______

_______

第___周期、第___族

2．高纯硅的制备

（1）流程

（2）反应

①______________________________

②______________________________

③______________________________

3．硅和二氧化硅的用途

（1）单质硅

①信息技术：单质硅是应用最为广泛的__________材料，如硅晶片是生产_____的基础材料。

②新能源技术：__________电池

（2）二氧化硅：用于生产__________。

4．新型陶瓷

（1）组成：不再限于传统的硅酸盐体系。

（2）特性和功能：在光学、热学、电学、磁学等方面具有很多新的特性和功能。

（3）碳化硅（SiC）俗称_____，具有类似金刚石的结构，可用作磨料，具有优异的高温抗氧化性能，可用作耐高温结构材料等。

（4）常见的类型：_____陶瓷、_____陶瓷、_____陶瓷、_____陶瓷。

5．碳纳米材料

（1）富勒烯：由______构成的一系列笼形分子的总称，如C60，可以制碳纳米材料。

（2）碳纳米管：可以看成是由______卷成的管状物，具有纳米尺度的直径，比表面积大，有相当高的______和优良的______性能，可用于生产复合材料、电池和传感器等。

（3）石墨烯：只有__________________厚度的单层石墨，电阻率_____、热导率_____，具有很高的强度，在光电器件、超级电容器、电池和复合材料等方面的应用研究在不断深入。

【即学即练2】2021年，我国航空航天事业取得了辉煌成就。下列成就所涉及的材料为半导体材料的是（）。

A．“天问一号”探测器使用的复合材料——SiC增强铝基复合材料

B．“天舟三号”货运飞船使用的质量轻强度高的材料——铝合金

C．“长征五号”运载火箭使用的高效清洁的液体燃料——液氢

D．“神舟十三号”载人飞船使用的太阳能电池材料——砷化镓

考法01硅和二氧化硅的性质及应用

【典例1】（2022·陕西榆林高一上学期期末）工业上可用焦炭与二氧化硅的混合物在高温下与氯气反应生成SiCl4和CO，SiCl4经提纯后用氢气还原得高纯硅。以下是实验室制备SiCl4的装置示意图：

已知：SiCl4熔点为－70.0℃，沸点为57.7℃，且遇水易水解。

（1）装置C中的试剂是________________：装置F的作用为_____________________。

（2）装置A中发生反应的离