2026《国内外射流电沉积流道的研究现状的文献综述》3400字.docxVIP

国内外射流电沉积流道的研究现状的文献综述

1.1射流电沉积技术的应用现状

喷射电沉积技术的应用主要在四个方面：制备多空金属，制备纳米晶材料，快速成型金属零件，制备复合镀层。纳米材料作为20世纪80年代左右发展起来的一种新材料，因为其具有的小尺寸效应、表面效应、量子尺寸效应和宏观量子隧穿效应，表现出许多优良的性能。其中，纳米晶材料由于结构规整缺陷较少的特点，呈现出独一无二的物理、化学、力学性能[8]。目前,制备纳米晶材料的方法较多，按其界面形成过程可分为外压力合成、相变界面合成、沉积合成三类[9]。这其中，沉积合成中的电沉积法具有生产规模大、操作简单的优点，但由于沉积速度慢，存在生产效率低的缺陷。而射流电沉积技术可极大提高沉积速率，并且有细化晶粒的作用，是非常有前景的制备纳米晶材料的技术[10]。目前，经过射流电沉积法制备纳米晶材料的研究主要包含纳米晶铜和纳米晶镍。国内外许多学者对纳米晶材料的喷雾电沉积过程中存在的问题进行了大量研究。沈理达等分别采用直流喷射电沉积和脉冲摩擦喷射电沉积在石墨基底上制备了纳米晶镍镀层[11]。经过分析比较，学者发现与直流喷射电沉积相比，脉冲摩擦喷射电沉积制备的涂层的外表面的品质更好。在相同工艺参数下，晶粒尺寸可由15nm减小到9～10nm。

多孔金属材料是当前发展较迅速的一种新型材料,共内部弥散分布着大量直径在2um~3mm孔洞[12]。多孔金属广