CN119421430A 半导体装置的形成方法 (台湾积体电路制造股份有限公司).docxVIP

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  • 2026-04-22 发布于山西
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CN119421430A 半导体装置的形成方法 (台湾积体电路制造股份有限公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119421430A

(43)申请公布日2025.02.11

(21)申请号202411324044.X

(22)申请日2024.09.23

(30)优先权数据

18/477,6482023.09.29US

(71)申请人台湾积体电路制造股份有限公司地址中国台湾新竹市

(72)发明人王绍安时定康白佳灵林斌彦

(74)专利代理机构隆天知识产权代理有限公司72003

专利代理师李南山

(51)Int.Cl.

H10D30/01(2025.01)

H10D84/03(2025.

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