ASTM D5464-23 中文版 半导体行业超纯水中阴离子离子色谱分析的标准指南.docxVIP

ASTMD5464-23中文版半导体行业超纯水中阴离子离子色谱分析的标准指南

1.前言

本标准指南参照ASTMD5464-23英文版制定，适用于半导体制造过程中所用超纯水（以下简称“半导体超纯水”）中常见阴离子的离子色谱分析，包括氟离子（F?）、氯离子（Cl?）、亚硝酸根离子（NO??）、硝酸根离子（NO??）、磷酸根离子（PO?3?）、硫酸根离子（SO?2?）等痕量阴离子的定性与定量测定。半导体超纯水作为半导体晶圆清洗、光刻、蚀刻等核心制程的关键基础原料，其阴离子杂质含量直接影响半导体器件的集成度、电性能及成品良率，随着半导体器件向纳米级、高集成度方向快速发展，对超纯水中阴离子的控制要求已达到μg/L（ppb）级甚至更低，建立标准化、高精度的阴离子检测方法至关重要。

本标准指南严格遵循ASTM国际标准的标准化原则，与ASTMD5464-23英文版技术要求保持一致，同时结合我国半导体行业的实际生产需求和检测实践，补充了半导体超纯水的特定检测要求和干扰控制细节，确保方法的适用性和可操作性。本指南规定了离子色谱法测定半导体超纯水中阴离子的原理、试剂与材料、仪器与设备、样品采集与保存、样品预处理、分析步骤、结果计算与表示、精密度与偏差、质量保证与质量控制及安全注意事项等内容，可作为半导体生产企业、第三方检测机构及科研单位开展半导体超纯水阴离子检测工作的标准化依据，为半导体超