CN119585852A 等离子体处理方法和等离子体处理装置 （东京毅力科创株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119585852A

(43)申请公布日2025.03.07

(21)申请号202380053639.3

(22)申请日2023.07.19

(30)优先权数据

2022-1174122022.07.22JP

2022-1175002022.07.22JP

2022-1174202022.07.22JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.14

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0263702023.07.19

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/019075JA2024.01.25

(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本

(72)发明人清水祐介中村谕小津俊久

松本直树

(74)专利代理机构北京尚诚知识产权代理有限

公司11322

专利代理师龙淳刘芃茜

(51)Int.Cl.

H01L21/3065(2006.01)

H01L21/68(2006.01)

H05H1/46(2006.01)

权利要求书2页说明书21页附图20页

(54)发明名称

等离子体处理方法和等离子体处理装置

(57)摘要

CN119585852A本发明提供掌握等离子体处理的状态的技术。等离子体处理方法