半导体芯片光刻工艺标准化作业手册.docx

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半导体芯片光刻工艺标准化作业手册

目录TOC\o1-4\z\u

一、总则 3

二、适用范围 8

三、术语与定义 10

四、操作人员资质要求 16

五、光刻设备准入标准 17

六、光刻材料准入标准 21

七、晶圆预处理作业规范 25

八、掩膜版管理作业规范 28

九、光刻胶涂覆作业规范 31

十、光刻胶软烘作业规范 33

十一、对准与曝光作业规范 34

十二、光刻胶后烘作业规范 38

十三、光刻胶显影作业规范 41

十四、光刻胶硬烘作业规范 44

十五、光刻工艺参数监控规范 46

十六、光刻车间环境管控规范 50

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