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以局部结构类似物为假模板的分子印迹整体柱的研究

一、引言

分子印迹技术（MolecularImprintingTechnology，MIT）是一种制备对特定目标分子具有高度选择性识别位点的聚合物的技术。通过该技术制备的分子印迹聚合物（MolecularlyImprintedPolymers，MIPs）在分离、传感、催化等领域展现出巨大的应用潜力。分子印迹整体柱作为MIPs的一种特殊形式，具有制备简单、传质速度快、柱效高等优点，近年来受到广泛关注。

在传统的分子印迹过程中，模板分子的使用存在一些问题，如模板分子昂贵、难以去除干净，可能导致在实际应用中的污染等。为解决这些问题，以局部结构类似物为假模板的策略应运而生。这种方法利用与目标分子具有相似局部结构的化合物作为模板，在制备分子印迹整体柱时，既能够诱导形成对目标分子具有特异性识别能力的位点，又能克服传统模板分子的一些弊端，为分子印迹整体柱的研究与应用开辟了新的途径。

二、分子印迹整体柱的基本原理

分子印迹整体柱的制备基于分子印迹技术原理。在聚合过程中，模板分子（或假模板）与功能单体通过共价键、氢键、离子键或范德华力等相互作用形成复合物。随后，交联剂加入使体系发生聚合反应，将模板分子与功能单体形成的复合物固定在三维网络结构中。聚合完成后，通过适当的方法去除模板分子，在聚合物中留下与模板分子空间结构互补、具有特定功能基团排列