GB_T 12963-2014 中文版 电子级多晶硅理化性能测试方法.docxVIP

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  • 2026-09-08 发布于广东
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GB_T 12963-2014 中文版 电子级多晶硅理化性能测试方法.docx

GB_T12963-2014中文版电子级多晶硅理化性能测试方法

一、标准概述与半导体产业应用价值

GB/T12963-2014《电子级多晶硅》是我国半导体硅材料领域核心的国家级推荐标准,替代旧版GB/T12963-2009版本,完整规定电子级多晶硅产品技术要求、全套理化性能测试方法、取样制样、检验判定、包装储运与质量证明规则,是国内多晶硅生产企业质检、单晶拉制企业入厂复验、贸易交接、质量仲裁的基础性技术依据。该标准适用于氯硅烷还原法、硅烷热分解法制备得到的棒状、块状电子级多晶硅,对接半导体集成电路、分立器件、功率器件、高效光伏单晶硅制造的上游原材料质量管控需求,统一了国内行业长期存在的测试口径不统一、制样流程不规范、痕量杂质评价不一致等现实痛点,为国产电子级多晶硅品质升级与高端供应链国产化提供标准化支撑。

电子级多晶硅是半导体产业链最上游的核心基材,纯度等级普遍达到9N-11N级别,微量的施主受主杂质、碳氧、金属沾污都会向下传导,直接影响后续直拉单晶、硅片、芯片器件的电学特性与成品良率。磷、硼这类浅杂质会改变硅的导电类型与电阻率;碳、氧杂质会在单晶生长过程形成沉淀、缺陷,诱发器件漏电;铁、铜、镍等过渡金属杂质会充当复合中心,降低少数载流子寿命,造成器件可靠性失效。GB/T12963-2014构建的整套理化测试体系,大量引用配套硅材料专用测试国标,把电学性能、体杂质、表

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