ASTM D7980-20 (2025) 中文版（半导体行业超纯水系统设计的标准指南 2025 年重新确认版）.docxVIP

ASTMD7980-20(2025)中文版（工程应用版）

半导体行业超纯水抓取样品中阴离子的离子色谱分析标准指南（2025重新确认版）

英文原名：StandardGuideforIon-ChromatographicAnalysisofAnionsinGrabSamplesofUltrapureWater(UPW)intheSemiconductorIndustry

前言

本指南为半导体超纯水（UPW）离线抓取水样中低ppt级别阴离子污染物的离子色谱（IC）分析技术指南，用于先进逻辑制程（7/5/3nm及GAA/EUV）超纯水体系中痕量阴离子检测。

本标准聚焦样品污染控制、仪器条件、测试流程、数据质量控制；阴离子杂质会造成栅介质缺陷、器件漏电、光刻界面污染，是先进制程超纯水核心管控项目。

配套参考标准：ASTMD5127、ASTMD6532、SEMIF57、SEMIF64。

重点提醒：本指南不包含超纯水系统管路、储罐、制备系统的设计内容，仅为实验室阴离子检测方法规范。

1范围

1.1适用水样：半导体超纯水UPW，目标检测低ppt（重量/重量）浓度阴离子污染物，包括氟离子F?、氯离子Cl?、溴离子Br?、亚硝酸根NO??、硝酸根NO??、磷酸根PO?3?、硫酸根SO?2?。

为降低连续样品之间的残留污染效应，推荐单一阴离子组分浓度控