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物理光学论文
题 目 系 英才学院
学 号
姓 名 张一博
日 期
摘要
本文介绍了基本光子晶体、二维光子晶体以及复合结构光子晶体的制备。光子晶体具有许多不同于单组分胶体粒子的独特的光、电、磁、催化等物理与化学性质, 是构筑光子晶体材料的重要组元。从材料复合的不同形式阐述了复合结构光子晶体的制备方法; 列举了光子晶体器件的典型应用, 综述了光子晶体的主要用途; 并展望了复合结构光子晶体的发展方向。
关键词:光子晶体;二维光子晶体;复合结构光子晶体;制备;功能;应用
Abstract
This paper introduces several kinds of photonic crystals such as two-dimension photonic crystal and compound-photonic crystal. Then the paper talks about some ranges to use these photonic crystals.
Keywords: photonic crystal, two-dimension photonic crystal, compound-photonic crystal, use.
1 引言
光子晶体的出现,为信息技术新的飞跃提供了一次历史性的机遇。正如20世纪中叶半导体的发现对此后半个世纪世界经济产生巨大影响一样, 光子晶体的研究、开发和应用可能在未来若干年世界经济的发展提供一个新的生长点。光信息技术是信息化社会的主要技术支撑。目前信息技术的核心是建立在半导体材料基础之上的微电子技术。由于强烈的需求, 微电子技术以惊人的速度发展。根据摩尔定律, 半导体元件的集成度以每18个月翻一番的速度发展, 电子和微电子技术正在走向物理上和技术上的极限(如速度极限、密度极限), 这些不可逾越的技术极限对信息技术的进一步发展提出了重大挑战。以光子代替电子作为信息的载体是长期以来人们的一个共识, 因为光子技术具有高传输速度、高密度及高容错性等优点。然而, 由于光子不像电子一样易于控制, 长期以来, 光信息技术仅仅在信息传输(光通信)中得到应用, 而且是最基本的信息功能。而信息处理的核心部分则依然依赖微电子技术。
2 光子晶体的制备
2.1 基本光子晶体制备
能使得红外光与可见光反射的光子晶体, 其晶体之晶格大小约为波长的1 /3到1 /2左右, 相当于200- 500纳米。要以人工的方式制作这样周期大小的光子晶体, 一种方式是使用比传统微米级更优良的曝光显影技术另一种方式则是以成长、沉积或化学合成的技术, 建构薄膜或纳米颗粒拜纳米
2.2 二维光子晶体的制备
光子晶体的晶格尺寸与光波波长相当, 因此禁带中心位置的波长越长, 光子晶体越易制造。微波波段的光子晶体晶格常数在毫米量级, 用机械加工的办法可实现。如图1 所示, 把直径为毫米量级的介质柱相互平行排成阵列, 或者在介质基底上打孔形成相互平行的空气柱列, 当微波在平行于圆柱轴线的平面上传播时, 就会形成光子带隙。最早的二维光子晶体就是如此制作的。
近年来, 研究者利用现有的半导体器件制作工艺, 制备了光子禁带在可见一红外波段的二维光子晶体,其方法是通过光刻预先引入一定图案, 形成特定的晶系。目前, 二维光子晶体的晶格多采用四方晶系、六角晶系和三角晶系。其中, 三角晶系受制造不均匀性的影响较小, 易出现完整的光子禁带。但是,三角晶系中要得到完整的禁带, 必须保证足够的空隙率,孔的形状对带隙结构也有影响, 圆形, 六角形, 三角形, 四方形的孔所形成的带隙结构
中, 只有圆孔构成的晶格具有显著的完全禁带。光子晶体是由不同介电常数的介质材料周期性排列构成的材料, 而二维光子晶体是利用介电常数为1 的空气与其他介电常数较大的材料形成周期性的变化, 可分为空气柱型和介质柱型; 下文将分别简要介绍这两种类型光子晶体的制备方法。
2.2.1 空气柱型光子晶体
2.2.1.1化学辅助离子束腐蚀法
以501(silieon-on-insulator)片为基板, 图案先用电子束平板印刷在PMM A (聚甲基丙烯酸甲醋) 上,然后用CAIBE(化学辅助离子束腐蚀) 转移到Si上,形成空气柱型光子晶体。采用这种方法, 能够获得200-700nm的晶格常数, 制备出PBG 位于可见-近红外区间的光子晶体
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