显微激光拉曼光谱法鉴别SiC 晶体的多型体结构.docVIP

显微激光拉曼光谱法鉴别SiC 晶体的多型体结构.doc

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
显微激光拉曼光谱法鉴别SiC晶体的多型体结构 韩荣江1, 2(,王继扬1,徐现刚1,胡小波1,董 捷1,李现祥1,李 娟1,姜守振1, 王 丽1,蒋民华1 (1. 山东大学晶体材料国家重点实验室,济南 250100; 2. 青岛科技大学材料与环境工程学院,青岛 266042) 摘 要:利用显微激光拉曼光谱法对掺氮6H-SiC单晶中的寄生多型体进行了鉴别,结果表明其中有4H-SiC和15R-SiC两种寄生多型体。不同SiC多型体的纵光学声子与等离子体激元的耦合模(LOPC模)表明:在掺氮6H-SiC单晶的生长条件下,6H-SiC的掺氮效应与4H-SiC存在明显差别,而与15R-SiC的掺氮效应相似。 关键词:显微激光拉曼光谱法;碳化硅单晶;多型体鉴别;掺氮效应 中图分类号:O657.37 文献标识码:A 文章编号: 1000-985X(2004) Polytype Identification of SiC Crystals by Micro-Raman Spectroscopy HAN Rong-jiang1, 2, WANG Ji-yang1, XU Xian-gang1, HU Xiao-bo1, DONG Jie1, LI Xian-xiang1, LI Juan1, JIANG Shou-zhen1, WANG Li1, JIANG Min-hua1 (1. State Key Laboratory of Crystal Materials, Shandong University, Jinan 250100, China; 2. College of Materials and Environment Engineering, Qingdao University of Science and Technology, Qingdao 266042, China) ( Received 17 May 2004) Abstract: The parasitic polytypes in nitrogen-doped 6H-SiC single crystal were identified by Micro-Raman spectroscopy. The results show that there are two parasitic polytypes such as 4H-SiC and 15R-SiC in 6H-SiC crystal. The longitudinal optical phonon-plasmon coupled modes (LOPC modes) of different SiC polytypes show that the nitrogen-doped effect of 6H-SiC is markedly different from that of 4H-SiC, and is similar to that of 15R-SiC under the growth condition of nitrogen-doped 6H-SiC single crystal. Key words: Micro-Raman spectroscopy;silicon carbide single crystals;polytype identification;nitrogen-doped effect 1 引言 碳化硅(SiC)是宽带隙半导体材料中的重要一员,其禁带宽度大、临界击穿电场强度高、载流子饱和迁移速度高、热导率高,并具有极好的化学稳定性[1],以其制造的SiC基微电子器件在高温、高频率、大功率、高电压和强辐射等条件下应用潜力巨大。 SiC材料有多种同质多型体[2],可分为立方结构(C)、六方结构(H)和菱面体结构(R)。其中3C-SiC(点群(43m,空间群F(43m)、6H-SiC(点群6mm,空间群P63mc)、4H-SiC(点群6mm,空间群P63mc)、15R-SiC(点群3m,空间群R3m)最为常见。不同的SiC多型体具有不同的结构对称性,这取决于硅碳双原子层在一维方向上堆垛次序的不同,图1给出了5种SiC多型体在一维方向上(图1中的箭头方向对3C-SiC来说指[111]方向;对2H-SiC、6H-SiC、4H-SiC和15R-SiC来说指[0001]方向)的硅碳双原子层的排列示意图。除3C-SiC或2H-SiC外,其它任何一种SiC多型体中,并非所有的硅碳双原子层都处于等价的位置上,这种不等价性源于该多型体中硅碳双原子层之间相对位置的差异。以6H-SiC为例说明(见图1),在A位置上的硅碳双原子层与其最近邻的上、下层之间呈六方堆垛

您可能关注的文档

文档评论(0)

flybook + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档