变!"组分沟道的;材料电子输运特性研究!.pdfVIP

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第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 3# !! #$$ !! , , , [:. ,3# S: , !! S:;=E7=\ #$$ ( ) !$$$(#D$Q#$$Q3# !! Q#%?D($A NY+N M)Z4/YN 4/S/YN !#$$ Y580 , M5] , 4:L , 变 组分沟道的 材料电子输运特性研究! ! ##$%#’ ) ) ) ) ) ) ! ! ! ! ! ! 仇志军 蒋春萍 桂永胜 疏小舟 郭少令 褚君浩 # ) # ) # ) # ) 崔利杰 曾一平 朱战平 王保强 !)(中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,上海 #$$$% ) # )(中国科学院半导体研究所,北京 !$$$% ) ( 年 月 日收到; 年 月 日收到修改稿) #$$# !$ % #$$ !% 在变缓冲层高迁移率晶体管( )器件中,二维电子气的输运性质对器件性能起着决定作用 通过低温 ’’()*’+ , 下二维电子气横向电阻的量子振荡现象,结合变温度的 测量,系统研究了不同 组分沟道 器件中 )-.. /0 ’’()*’+ 子带电子迁移率和浓度随温度的变化关系 结果表明,沟道中 组分为 的样品,材料电学性能最好, 组分高 , /0 $ 123 /0 于$ 123 的样品,严重的晶格失配将产生位错,引起迁移率下降,大大影响材料和器件的性能, 关键词:变缓冲层高迁移率晶体管, 振荡 4567089:;(= )- : , ()** ?2$@ ?A$) !1 引 言 # 1 样品结构与实验 高电子迁移率晶体管( )由于其在高频和 材料结构设 )*’+

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