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韩尔立等 大气压聚合SiOx薄膜用于新型印刷板材的研究
大气压聚合 SiOx薄膜用于新型印刷板材的研究
韩尔立 ，‘陈 强 ，‘张广秋 ，‘武昌平
(1．北京印刷学院，北京 102600；2．中国原子能科学研究院，北京 102413)
[摘要] 以六甲基二硅氧烷 (HMDSO)为单体，采用DBD等离子体枪在大气环境下进行聚合物
合成，对2种不同进样方式的放 电特性、聚合效果作 了比较 ，发现 2种进样方式的放电特性相同，唯一
不同在于等离子体区下游进样放 电等离子体炬长在低流量时先增大后减小，而等离子体区直接进样
方式放 电炬长直接达到起弧最大值。FTIR显示单体不同的输入方式对聚合膜结构影响不大，但对聚
合膜的沉积速度有明显的影响，单体输入到等离子体 区下游成膜速度明显快于单体直接进入等离子
体区。扫描电子显微镜 (SEM)给出了聚合膜的表面形态，表面能测试显示其接触角可达 ll0度 ，推墨
实验表明等离子体下游区进样聚合膜斥墨性好 ，可做无水胶印板材。
关键词：等离子体化学；聚合；进样方式；SiOx薄膜；DBD等离子体枪
中图分类号：TQ316．3l；TS802 文献标识码：A 文章编号：1001—3563(2005l04—0001—03
TheResearch 0fSiOxFilm Polymeriza1=ion with DBD Plasma
Gun andApplication inNew TypeofPrintingBora dM aterial
忍4Ⅳ ，CHENQiang，ZHANGGuang-qiu，删 Chang-ping
(1．BeijingInstituteofGraphicCommunication，Beijing102600，China；
2．ChinaInstituteofAtomicEnergy，Beijing102413，China)
Abstract：SiOxfilmpolymerizedwithdielectricbarrierdischarging(DBD)plasmaguninatmospheric
pressurewaspresented．Aftercomparingthedifferentmonomerfeedingmehtods，indischargingzoneand
downs~eam ，itWas f0undhterearenegligiblevariationindischargingpropertiesnadfilm structures，except
thelaterdischargingofdownstream feedingatlow flow mate，butonthedepositionratewhich islargerin
downsrteam．ThepolymerizationisconfirmedbyFourierTrnasfomr InfraredSpectroscopy(m R)andScan-
ningElectronMicroscopy(SEM)，whichindicated。htehomogeneousfilmwiht reticuloendohtelialstructure
Wasdepositedindownsrteamfeedingmehtod．ThecontactnaglemeasurementrevealedhtatSiOxfilmWas
muchhydrophobic，l10degreeindistilledwater．
Key words：Plasmachemistry；
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