动态掩膜光刻在液晶取向中的应用.pdfVIP

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2017-09-17 发布于重庆
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动态掩膜光刻在液晶取向中的应用.pdf

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第卷第期液晶与显示，２８２Ｖｏｌ．２８Ｎｏ．２　　　　　年月，２０１３４ＣｈｉｎｅｓｅＪｏｕｒｎａｌｏｆＬｉｕｉｄＣｒｓｔａｌｓａｎｄＤｉｓｌａｓＡｒ．２０１３ｑｙｐｙｐ文章编号：（）１００７２７８０２０１３０２０１９９０５动态掩膜光刻在液晶取向中的应用  胡华超，魏冰妍，胡伟，陆延青　（南京大学现代工程与应用科学学院，江苏南京２１００９３）　摘要：利用基于数控微镜阵芯片的微投影光刻系统将任意设定的图形投影到ＳＤ１取向涂层上，约束ＳＤ１　分子的排列方向，进而控制液晶的区域取向。该动态掩膜光刻系统可用于液晶取向的任意图形制备和偏振控制，实际分辨率达到了５ｍ。基于ＳＤ１材料的可擦写特性，实现了不同一／二维码间的光控转换，并实现了 μ 任意灰度的分区控制。上述器件均可在外场作用下实现开关或调谐。该动态掩膜光刻技术可方便地实现实时、复杂的液晶图形取向控制，在信息显示与识别及可调光子学器件等方面有着广阔的应用前景。关键词：ＤＭＤ；液晶；光取向；二维码；灰度　　中图分类号：；＋文献标识码：：／Ｏ４３Ｏ７５３．２Ａ犇犗犐１０．３７８８ＹＪＹＸ０１９９　　　　　　犃犾犻犮犪狋犻狅狀狊狅犳犇狀犪犿犻犮犕犪狊犽犅犪狊犲犱狆狆狔犘犺狅狋狅犾犻狋犺狅狉犪犺犻狀犔犻狌犻犱犆狉狊狋犪犾犃犾犻狀犿犲狀狋犵狆狔狇狔犵  ，，，ＨＵＨｕａｃｈａｏＷＥＩＢｉｎａｎＨＵＷｅｉＬＵＹａｎｉｎｇｙｑｇ（，，，）犆狅犾犾犲犲狅犈狀犻狀犲犲狉犻狀犪狀犱犃犾犻犲犱犛犮犻犲狀犮犲狊犖犪狀犻狀犝狀犻狏犲狉狊犻狋犖犪狀犻狀２１００９３犆犺犻狀犪犵犳犵犵狆狆犼犵狔犼犵　：犃犫狊狋狉犪犮狋Ａｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｒａｈｓｓｔｅｍｂａｓｅｄｏｎｄｉｉｔａｌｍｉｃｒｏｍｉｒｒｏｒｄｅｖｉｃｅｉｓｕｔｉｌｉｚｅｄｉｎｌｉｕｉｄ