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第29卷第10期 光 学 学 报 V01．29，No．10
2009年10月 ACTA0PTICASINICA October，2009
文章编号：0253—2239(2009)10—2650—06
2000l／mm
X射线镂空透射光栅的制备研究
李海亮h2吴 坚2 朱效立1 谢常青1 刘 明1 曹磊峰3
， 1中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室，北京100029 、
、2北京工业大学激光工程研究院，北京100022；3中国工程物理研究院激光聚变研究中心，四川绵阳621900／
摘要在满足工艺要求的前提下，通过模拟光栅衍射，设计出镂夺透射光栅模型，在此基础上将电子束和X射线光
刻技术相结合，研究了制造2000l／ramX射线镂空透射光栅的新工艺技术。首先利用电子束光刻和微电镀技术在
镂空聚酰亚胺薄膜底衬上制备X射线母光栅掩模。然后利用X射线光刻和微电镀技术实现了光栅图形的复制，之
后采用紫外光刻和微电镀技术制作加强筋结构。最后通过腐蚀体硅和等离子体刻蚀聚酰亚胺完成镂空透射光栅的
制作。从此新的制造工艺结果上来看．制备的光栅栅线平滑，占空比合理，侧壁陡直，不同光栅之间一致性好，完全
可以满足应用需求，充分表明了该制造技术是透射式X射线衍射光学元件制造的良好选择。
关键词 光学制造；镂空透射光栅；电子束光刻；X射线光刻；微电镀
中图分类号TN405文献标识码 A doi：10．3788／AO2650
Fabricationand of2000
Study I／mmX-RaySelf_Standing
Transmission
Gratings
Li Wu ZhuXiaolilXie Liu Cao
Jian2
Hailian91·2 Changqin91Min91 Leifen93
1 LabNano-FabricationandNovelDevices Mieroelecttonics，
Key of IntegratedTechnology，Instituteof
Chinese 100029。China
AcademyofSciences。Belting
2
InstituteLaser 100022。China
of Engineering。BeOingUniversityof
Technology。BeUing
3
ResearchCenterLaserFusion，China 621 900．China
of Academyof
EngineeringPhysics，Mianyang，Sichuan
AbstractWithinthelimitof l／ram transmissionmodelwas
fabricatingtechniques。2
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