四氯化硅气相水解制备超细白炭黑工艺的研究.pdfVIP

第30卷 第6期 硅 酸 盐 通 报 Vol_3O No．6 2011年 12月 BULLETIN OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY December．2011 四氯化硅气相水解制备超细 白炭黑工艺的研究 卢钱峰，郑典模 ，周桂明，潘鹤政 (南昌大学环境与化学工程学院，南 昌 330031) 摘要：本文以四氯化硅为原料 ，采用气相水解法制备超细白炭黑新工艺。探讨了四氯化硅通气速率、硅酸钠含量及 反应温度等因素对产物理化性能的影响。结果表明，较优工艺条件为四氯化硅通气速率 150mL／min，硅酸钠含量 13％，反应温度70℃。该工艺条件下所得产物为无定形结构超细 白炭黑，其吸油值2．57mL／g，比表面积 115．49 m ／g，二氧化硅含量 (干基)99．06％，表观密度0．11g／mL，粒径 (d50)6．5 m。 关键词：四氯化硅；气相水解法；超细白炭黑 中图分类号：TQ127 文献标识码：A 文章编号：1001—1625(2011)06—1353-05 StudyonPreparationTechnologyofUltrafineSilicabySilicon TetrachlorideGasPhaseHydrolysisM ethod LUQian-feng，ZHENGDian-7加，ZHOUGui—ming，PANHe-zheng (SchoolofEnvironmentandChemicMEn~neefing，NanchangUniversity，Nanchang330031，China) Abstract：Theuhrafinesilicawaspreparedfrom silicontetrachloridebygasphasehydrolysismethodin thispaper．Severalreaction factors such asthe ventilation rateofsilicon tetrachloride，concentof Na2SiO3andreactiontemperatureonthephysicalandchemicalprope~iesofproductwereinvestigated． Theresults show thatthe optimum conditionsare confirmed asfollows：ventilation rate of silicon tetrachlorideis150mL／min，concentofNa2SiO3is13％ andreactiontemperatureis70 oC．Underthe optimum conditions，theproductisamorphoussilicaandcharacterizedinvariousaspectsasfollows：DBP is2．57mL／g，specificsurfaceareais115．49m ／g，silicacontent(drybasis)is99．06％，apparent densityis0．11g／mLandparticlesize(d50)is6．5 m． Keywords：silicontetrachloride；gasphasehydrolysismethod；uhrafinesilica 引 言 目前世界上70％～85％的多晶硅皆采用西门子法生产，其生产过程副产大量四氯化硅…。四氯化硅的 强腐蚀性强，若不妥善处理，会导致水土污染，造成严重的环境问题，四氯化硅能否有效的处理已直接影响着 多晶硅产业的发展 J。当前国内外处理四氯化硅主要有两种方法：一是氢化还原生产三氯氢硅，但该技术 主要掌握在国外几家多晶硅生产厂家，且所需成本高，转化率低；二是生产其它化工产品，如白炭黑、硅酸乙 酯